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職名 |
教授 |
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科研費研究者番号 |
00284951 |
主たる研究テーマ 【 表示 ／ 非表示 】
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Oxide Films in Adodizing and Their Photophysics
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Mechanism of Pattern Formation and its Time-Development
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Kinetics of Charge-Transfer Reactions in Electrolyte
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陽極酸化による酸化薄膜形成機構とその光物性
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電気化学反応におけるパターン形成と反応・拡散モデル
論文 【 表示 ／ 非表示 】
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Al Thin Films Electrodeposited on Copper in an Aqueous Solution
M. Saitou
International Journal of Electrochemical Science 15 10971 - 10978 2020年11月 [ 査読有り ]
掲載種別: 研究論文（学術雑誌）
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Prediction of Mn Contents of Amorphous Co–Mn Thin Films Formed during Electrodeposition
M. Saitou
International Journal of Electrochemical Science 15 9940 - 9947 2020年09月 [ 査読有り ]
掲載種別: 研究論文（学術雑誌）
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Prediction of the Elemental Content of Thin Films Electrodeposited from a Multi–component Solution: Co–Ni–Fe– Mn Thin Film as an Example of Multi–element Electrodeposits
M. Saitou
International Journal of Electrochemical Science 15 6561 - 6571 2020年07月 [ 査読有り ]
掲載種別: 研究論文（学術雑誌）
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Formation of Co–Ni Alloy Superlattices Composed of Face-centered Cubic (FCC) and Hexagonal Close Packed (HCP) Atomic Layers Using a Rectangular Pulse Voltage
M. Saitou
nt. J. Electrochem. Sci. 15 3180 - 3188 2020年04月 [ 査読有り ]
掲載種別: 研究論文（学術雑誌）
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Formation of Amorphous Iron Thin Films during Electrodeposition
M. Saitou
M. Saitou ( ESG ) 15 434 - 441 2020年01月 [ 査読有り ]
掲載種別: 研究論文（学術雑誌）
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著書 【 表示 ／ 非表示 】
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Observation of thermal roughening transition in nickel surface dissolved by an electrochemical technique
M. Saitou ( 担当: 単著 )
FORMATEX 2014年12月 ( 担当ページ: p.9 )
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Microscopy: Science, Technology, Applications and Education
A. Méndez-Vilas ( 担当: 単著 )
FORMATEX RESEARCH CENTER 2010年12月
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New developments in electrodeposition and Pitting Research
M. Saitou ( 担当: 共著 )
Transworld research Network 2007年04月 ( ページ数: 245 )
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Recent Research Development in Electrochemistry 8
S.G.Pandalai ( 担当: 共著 )
Transworld Research Network 2005年03月
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Science, Technology and Education of Microscopy: An Overview, AFM study on kinetic surface roughening of Ni thin films in electrodeposition and in anodic dissolution
A. Mendez-Vilas ( 担当: 共著 )
FORMATEX, Badajoz, Spain 2003年03月
研究発表等の成果普及活動 【 表示 ／ 非表示 】
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Scaling Behavior of Internal Stress in Gold Thin Films
M. Machida, M. Saitou
63th meeting of International Electrochemical Society 2012年08月 - 2012年08月
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Internal Stress Deviated from a Scaling Law Owing to an Additive Agent
T. Oshiro, M. Saitou
63th meeting of International Electrochemical Society 2012年08月 - 2012年08月
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Internal Stress in Nickel Films Electrodeposited by a Pulse Current Technique
T. Nishimura, M. Saitou
63th meeting of International Electrochemical Society 2012年08月 - 2012年08月
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Fractal Behavior of Galvanic Currents through Dual Electrode Types of Atmospheric Corrosion Monitor
M. Saitou
55th meeting of International Electrochemical Society 2004年04月 - 2004年04月
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Kinetics of electrode reactions on (110) single-crystalline nickel electrodes in a nickel sulfamate solution using a multi-pulse current technique
R. Hashiguchi, M. Saitou
55th meeting of International Electrochemical Society 2004年04月 - 2004年04月
科研費獲得情報 【 表示 ／ 非表示 】
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動的スケーリング理論を用いた電気めっき薄膜の内部応力形成機構に関する研究
基盤研究(C)
課題番号: 22560025
研究期間: 2010年04月 - 2012年03月
代表者: 斉藤 正敏
直接経費: 2,300,000（円） 間接経費: 690,000（円） 金額合計: 2,990,000（円）
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基盤研究(C)
課題番号: 15560021
研究期間: 2003年04月 - 2005年03月
代表者: 斉藤 正敏 研究分担者: 押川 渡 琉球大学, 工学部, 助手 (80224228)
直接経費: 3,800,000（円） 間接経費: 1,140,000（円） 金額合計: 4,940,000（円）
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動的スケーリング理論を用いたAFMによる電気めっき薄膜の成長機構に関する研究
基盤研究(C)
課題番号: 13650029
研究期間: 2001年04月 - 2003年03月
代表者: 斉藤 正敏 研究分担者: 押川 渡 琉球大学, 工学部, 助手 (80224228)
直接経費: 2,700,000（円） 間接経費: 810,000（円） 金額合計: 3,510,000（円）
その他研究費獲得情報 【 表示 ／ 非表示 】
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特定結晶面を持つ光沢白金めっき薄膜の非シアン溶液を用いた低温形成機構に関する研究
研究費種類: 財団・社団法人等の民間助成金 参画方法: その他
研究種別: 受託研究 事業名: -
研究期間: 2009年04月 - 2010年03月
代表者: 斎藤 正敏 資金配分機関: 財団法人 高橋産業経済研究財団
金額合計: 1,000,000（円）