斉藤 正敏 (サイトウ マサトシ)

Saito Masatoshi

写真a

職名

教授

科研費研究者番号

00284951

研究分野・キーワード

電析,電気化学,結晶成長

現在の所属組織 【 表示 / 非表示

  • 専任   琉球大学   工学部   工学科エネルギー環境工学コース   教授  

取得学位 【 表示 / 非表示

  • 早稲田大学 -  博士(工学)  その他

職歴 【 表示 / 非表示

  • 1996年04月
    -
    継続中

      琉球大学 工学部 機械システム工学科 材料システム工学講座 教授  

所属学会・委員会 【 表示 / 非表示

  • 1998年04月
    -
    継続中
     

    米国化学学会

  • 1998年04月
    -
    継続中
     

    米国電気化学会

専門分野(科研費分類) 【 表示 / 非表示

  • 物理化学

  • 薄膜・表面界面物性

  • ナノ材料・ナノバイオサイエンス

主たる研究テーマ 【 表示 / 非表示

  • Oxide Films in Adodizing and Their Photophysics

  • Mechanism of Pattern Formation and its Time-Development

  • Kinetics of Charge-Transfer Reactions in Electrolyte

  • 陽極酸化による酸化薄膜形成機構とその光物性

  • 電気化学反応におけるパターン形成と反応・拡散モデル

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論文 【 表示 / 非表示

  • Al Thin Films Electrodeposited on Copper in an Aqueous Solution

    M. Saitou

    International Journal of Electrochemical Science   15   10971 - 10978   2020年11月

  • Prediction of Mn Contents of Amorphous Co–Mn Thin Films Formed during Electrodeposition

    M. Saitou

    International Journal of Electrochemical Science   15   9940 - 9947   2020年09月

  • Prediction of the Elemental Content of Thin Films Electrodeposited from a Multi–component Solution: Co–Ni–Fe– Mn Thin Film as an Example of Multi–element Electrodeposits

    M. Saitou

    International Journal of Electrochemical Science   15   6561 - 6571   2020年07月

  • Formation of Co–Ni Alloy Superlattices Composed of Face-centered Cubic (FCC) and Hexagonal Close Packed (HCP) Atomic Layers Using a Rectangular Pulse Voltage

    M. Saitou

    nt. J. Electrochem. Sci.   15   3180 - 3188   2020年04月

  • Formation of Amorphous Iron Thin Films during Electrodeposition

    M. Saitou

    M. Saitou ( ESG )  15   434 - 441   2020年01月

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著書 【 表示 / 非表示

  • Observation of thermal roughening transition in nickel surface dissolved by an electrochemical technique

    M. Saitou ( 担当: 単著 )

    FORMATEX  2014年12月 ( 担当ページ: p.9 )

  • Microscopy: Science, Technology, Applications and Education

    A. Méndez-Vilas ( 担当: 単著 )

    FORMATEX RESEARCH CENTER  2010年12月

  • New developments in electrodeposition and Pitting Research

    M. Saitou ( 担当: 共著 )

    Transworld research Network  2007年04月 ( ページ数: 245 )

  • Recent Research Development in Electrochemistry 8

    S.G.Pandalai ( 担当: 共著 )

    Transworld Research Network  2005年03月

  • Science, Technology and Education of Microscopy: An Overview, AFM study on kinetic surface roughening of Ni thin films in electrodeposition and in anodic dissolution

    A. Mendez-Vilas ( 担当: 共著 )

    FORMATEX, Badajoz, Spain  2003年03月

研究発表等の成果普及活動 【 表示 / 非表示

  • Scaling Behavior of Internal Stress in Gold Thin Films

    M. Machida, M. Saitou

    63th meeting of International Electrochemical Society  2012年08月  -  2012年08月   

  • Internal Stress Deviated from a Scaling Law Owing to an Additive Agent

    T. Oshiro, M. Saitou

    63th meeting of International Electrochemical Society  2012年08月  -  2012年08月   

  • Internal Stress in Nickel Films Electrodeposited by a Pulse Current Technique

    T. Nishimura, M. Saitou

    63th meeting of International Electrochemical Society  2012年08月  -  2012年08月   

  • Fractal Behavior of Galvanic Currents through Dual Electrode Types of Atmospheric Corrosion Monitor

    M. Saitou

    55th meeting of International Electrochemical Society  2004年04月  -  2004年04月   

  • Kinetics of electrode reactions on (110) single-crystalline nickel electrodes in a nickel sulfamate solution using a multi-pulse current technique

    R. Hashiguchi, M. Saitou

    55th meeting of International Electrochemical Society  2004年04月  -  2004年04月   

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科研費獲得情報 【 表示 / 非表示

その他研究費獲得情報 【 表示 / 非表示

  • 特定結晶面を持つ光沢白金めっき薄膜の非シアン溶液を用いた低温形成機構に関する研究

    研究費種類: 財団・社団法人等の民間助成金  参画方法: その他

    研究種別: 受託研究  事業名: -

    研究期間: 2009年04月  -  2010年03月 

    代表者: 斎藤 正敏  資金配分機関: 財団法人 高橋産業経済研究財団

    金額合計: 1,000,000(円)