岡田 竜弥 (オカダ タツヤ)

OKADA Tatsuya

写真a

職名

助教

科研費研究者番号

30570618

ホームページ

http://www.cc.u-ryukyu.ac.jp/~tokada

現在の所属組織 【 表示 / 非表示

  • 専任   琉球大学   工学部   工学科電子情報通信コース   助教  

取得学位 【 表示 / 非表示

  •  -  博士(工学)  電子・電気材料工学

  •  -  修士(工学)  電子・電気材料工学

職歴 【 表示 / 非表示

  • 2009年04月
    -
    継続中

      琉球大学 工学部 電気電子工学科 電子物性工学講座  

研究キーワード 【 表示 / 非表示

  • 薄膜半導体,急速熱処理

研究分野 【 表示 / 非表示

  • ナノテク・材料 / 薄膜、表面界面物性

  • ものづくり技術(機械・電気電子・化学工学) / 電子デバイス、電子機器

論文 【 表示 / 非表示

  • Crystallization of SiN Capped InSb Films on Glass by Rapid Thermal Annealing

    O. Shimoda, Y. Sawama, C. J. Koswaththage, T. Noguchi, T. Kajiwara, T. Sadoh, and T. Okada

    The 21st International Meeting on Information Display     396 - 396   2021年08月 [ 査読有り ]

    掲載種別: 研究論文(国際会議プロシーディングス)

  • Issues and the Improvement to the Crystallization of a-Si Films for LTPS TFTs on Arbitrary Panels

    T. Noguchi, and T. Okada

    The 20th International Meeting on Information Display     120 - 120   2020年08月 [ 査読有り ]

    掲載種別: 研究論文(国際会議プロシーディングス)

  • Attractive Crystallization of Semiconductor Films

    T. Noguchi, T. Okada, and C. J. Koswaththage

    The 19th International Meeting on Information Display     226 - 226   2019年08月 [ 査読有り ]

    掲載種別: 研究論文(国際会議プロシーディングス)

  • Effect of 4% H2 Annealing to Poly-Si TFTs on Polyimide

    D. Tokieda, Y. Ishiki, T. Okada, T. Noguchi, and T. Okuyama

    The 19th International Meeting on Information Display     327 - 327   2019年08月 [ 査読有り ]

    掲載種別: 研究論文(国際会議プロシーディングス)

  • Study of Leakage Current for Poly-Silicon Thin-Film Transistors with Metal-Source/Drain contact by BLDA

    K. Lee, K. Shimai, W. Choi, T. Okada, and T. Noguchi

    The 19th International Meeting on Information Display     342 - 342   2019年08月 [ 査読有り ]

    掲載種別: 研究論文(国際会議プロシーディングス)

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研究発表等の成果普及活動 【 表示 / 非表示

  • 急速熱処理法によるInSb薄膜/ガラス基板の結晶成長

    梶原 隆司, 霜田 音吉, 岡田 竜弥, チャリット ジャヤナダ コスワッタゲー, 野口 隆, 佐道 泰造

    第82回応用物理学会秋季学術講演会 (名城大学(オンライン開催), 2021年9月10-13日) p.12_043 [10p-N302-11].  2021年09月  -  2021年09月   

  • 青色ダイレクトダイオードレーザを用いたスパッタ製膜a-Si 膜の結晶化

    岡田 竜弥, 野口 隆, 菱田 光起, 宮野 謙太郎,小畑 直彦, 信岡 政樹

    第82回応用物理学会秋季学術講演会 (名城大学(オンライン開催), 2021年9月10-13日) p.12_033 [10p-N302-3].  2021年09月  -  2021年09月   

  • Crystallization of SiN Capped InSb Films on Glass by Rapid Thermal Annealing

    O. Shimoda, Y. Sawama, C. J. Koswaththage, T. Noguchi, T. Kajiwara, T. Sadoh, and T. Okada

    The 21st International Meeting on Information Display (COEX, Seoul, Korea (ON/OFF-LINE Hybrid Event), August 25-27, 2021) p.396 [P5-40].  2021年08月  -  2021年08月   

  • 絶縁基板上Si薄膜の結晶化における課題

    野口 隆, 岡田 竜弥

    シリコン材料・デバイス研究会 (沖縄青年会館, 2021年4月23-24日) pp.13-14 [SDM2021-3].  2021年04月  -  2021年04月   

  • SiNキャッピングしたガラス上InSb膜のRTAによる結晶化

    阪本 弦太, 島袋 明香, 野口 隆, 岡田 竜弥

    第68回応用物理学会春季学術講演会 (オンライン開催, 2021年3月16-19日) p.12_175 [18p-Z24-8].  2021年03月  -  2021年03月   

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その他研究費獲得情報 【 表示 / 非表示

  • フレキシブル基板上poly-Si TFT作製に関する研究

    研究費種類: 財団・社団法人等の民間助成金  参画方法: 研究代表者

    研究種別: 研究助成  事業名: 平成30年度 天田財団 助成

    課題番号: AF-2018236

    研究期間: 2018年10月  -  2021年03月 

    代表者: 岡田 竜弥  資金配分機関: 公益財団法人 天田財団

    直接経費: 2,000,000(円)  金額合計: 2,000,000(円)