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職名 |
助教 |
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科研費研究者番号 |
30570618 |
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取得学位 【 表示 ／ 非表示 】
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広島大学 - 博士(工学) ものづくり技術（機械・電気電子・化学工学） / 電子デバイス、電子機器
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広島大学 - 修士(工学) ものづくり技術（機械・電気電子・化学工学） / 電子デバイス、電子機器
所属学会・委員会 【 表示 ／ 非表示 】
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2005年01月-継続中
応用物理学会
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2009年11月-継続中
電子情報通信学会
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2012年09月-継続中
The Society for Information Display
論文 【 表示 ／ 非表示 】
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Annealing Manufacturing Method Using Continuous Blue WBC (Wavelength Beam Combining) Technique
M. Hishida, N. Kobata, K. Miyano, M. Nobuaki, T. Okada, and T. Noguchi
Materials 17 5399-1 - 5399-12 2024年11月 [ 査読有り ]
掲載種別: 研究論文（学術雑誌）
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Crystallization of a-Si films deposited by RF sputtering using blue direct diode laser
M. Hishida, N. Kobata, K. Miyano, M. Nobuoka, T. Okada, and T. Noguchi
Photonics West 2023年01月 [ 査読有り ]
掲載種別: 研究論文（国際会議プロシーディングス）
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High mobility of (111)-oriented large-domain (>100 μm) poly-InSb on glass by rapid-thermal crystallization of sputter-deposited films
T. Kajiwara, O. Shimoda, T. Okada, C. J. Koswaththage, T. Noguchi, and T. Sadoh
Journal of Applied Physics 132 ( 14 ) 145302-1 - 145302-6 2022年10月 [ 査読有り ]
掲載種別: 研究論文（学術雑誌）
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Formation of High-Mobility InSb Films on Glass by Sputtering and Rapid-Thermal Annealing
T. Kajiwara, O. Shimoda, T. Okada, C. J. Koswaththage, T. Noguchi, and T. Sadoh
International Conference on Solid State Devices and Materials 2022年09月 [ 査読有り ]
掲載種別: 研究論文（国際会議プロシーディングス）
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Crystallization of SiN Capped InSb Films on Glass by Rapid Thermal Annealing
O. Shimoda, Y. Sawama, C. J. Koswaththage, T. Noguchi, T. Kajiwara, T. Sadoh, and T. Okada
The 21st International Meeting on Information Display 396 - 396 2021年08月 [ 査読有り ]
掲載種別: 研究論文（国際会議プロシーディングス）
研究発表等の成果普及活動 【 表示 ／ 非表示 】
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Metal Source/Drain Structure TFTs using poly-Si Crystallized by Blue Multi-Laser Diode Annealing
T. Okada, and T. Noguchi
19th International Thin-Film Transistor Conference (Nara, Japan, March 24 - 26, 2025) 2025年03月 - 2025年03月
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ポリイミド上にArスパッタ成膜したInSb薄膜のRTA結晶化
比嘉 辰志, 奥 翔太, 野口 隆，梶原 隆司, 佐道 泰造, 岡田 竜弥
第72回応用物理学会春季学術講演会 (東京理科大学野田キャンパス&オンライン, 2025年3月14-17日) p.11_244 [17a-K103-11]. 2025年03月 - 2025年03月
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Neを用いてスパッタ成膜したガラス上InSb膜のRTA結晶化における膜厚効果
奥 翔太, 比嘉 辰志, 野口 隆，梶原 隆司, 佐道 泰造, 岡田 竜弥
第72回応用物理学会春季学術講演会 (東京理科大学野田キャンパス&オンライン, 2025年3月14-17日) p.11_243 [17a-K103-10]. 2025年03月 - 2025年03月
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NeによりRFスパッタ成膜したInSb薄膜のRTA結晶化に与えるSiO2キャップ膜の影響
奥 翔太, 岡田 竜弥
令和6年度 電気学会九州支部沖縄支所講演会 (琉球大学, 2024年12月14日) pp.24-26 [OKI-2024-06]. 2024年12月 - 2024年12月
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青色ダイレクトダイオードレーザを用いたCVD製膜a-Si 膜の結晶化
岡田 竜弥, 野口 隆, 菱田 光起, 宮野 謙太郎,小畑 直彦, 信岡 政樹
第85回応用物理学会秋季学術講演会 (朱鷺メッセほか2会場 & オンライン, 2024年9月16-20日) p.12_025 [16p-B1-4]. 2024年09月 - 2024年09月
その他研究費獲得情報 【 表示 ／ 非表示 】
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フレキシブル基板上poly-Si TFT作製に関する研究
研究費種類: 財団・社団法人等の民間助成金 参画方法: 研究代表者
研究種別: 研究助成 事業名: 平成30年度 天田財団 助成
課題番号: AF-2018236
研究期間: 2018年10月 - 2021年03月
代表者: 岡田 竜弥 資金配分機関: 公益財団法人 天田財団
直接経費: 2,000,000（円） 金額合計: 2,000,000（円）