研究発表等の成果普及活動 - 岡田　竜弥

Metal Source/Drain Structure TFTs using poly-Si Crystallized by Blue Multi-Laser Diode Annealing

T. Okada, and T. Noguchi

19th International Thin-Film Transistor Conference (Nara, Japan, March 24 - 26, 2025)  2025年03月  -  2025年03月   

ポリイミド上にArスパッタ成膜したInSb薄膜のRTA結晶化

比嘉 辰志, 奥 翔太, 野口 隆，梶原 隆司, 佐道 泰造, 岡田 竜弥

第72回応用物理学会春季学術講演会 (東京理科大学野田キャンパス&オンライン, 2025年3月14-17日) p.11_244 [17a-K103-11].  2025年03月  -  2025年03月   

Neを用いてスパッタ成膜したガラス上InSb膜のRTA結晶化における膜厚効果

奥 翔太, 比嘉 辰志, 野口 隆，梶原 隆司, 佐道 泰造, 岡田 竜弥

第72回応用物理学会春季学術講演会 (東京理科大学野田キャンパス&オンライン, 2025年3月14-17日) p.11_243 [17a-K103-10].  2025年03月  -  2025年03月   

NeによりRFスパッタ成膜したInSb薄膜のRTA結晶化に与えるSiO2キャップ膜の影響

奥 翔太, 岡田 竜弥

令和6年度 電気学会九州支部沖縄支所講演会 (琉球大学, 2024年12月14日) pp.24-26 [OKI-2024-06].  2024年12月  -  2024年12月   

青色ダイレクトダイオードレーザを用いたCVD製膜a-Si 膜の結晶化

岡田 竜弥, 野口 隆, 菱田 光起, 宮野 謙太郎,小畑 直彦, 信岡 政樹

第85回応用物理学会秋季学術講演会 (朱鷺メッセほか2会場 & オンライン, 2024年9月16-20日) p.12_025 [16p-B1-4].  2024年09月  -  2024年09月   

Possibility of advanced BLDA of lumped CW scanning for low-cost LTPS using WBC (Wavelength Beam Combiner) technique

T. Noguchi, T. Okada, M. Hishida, N. Kobata, K. Miyano, and M. Nobuoka

The 24th International Meeting on Information Display (ICC, Jeju Island, Korea, August 20-23, 2024)  2024年08月  -  2024年08月   

Neを用いてスパッタ成膜したガラス上InSb膜のRTA結晶化における膜厚効果

上間 亮ノ佑, 奥 翔太, 野口 隆，梶原 隆司, 佐道 泰造, 岡田 竜弥

第71回応用物理学会春季学術講演会 (東京都市大学 世田谷キャンパス&オンライン, 2024年3月22-25日) p.12_127 [23p-12K-15].  2024年03月  -  2024年03月   

青色ダイレクトダイオードレーザを用いたスパッタ製膜a-Si 膜の結晶化(その4)

岡田 竜弥, 野口 隆, 菱田 光起, 宮野 謙太郎,小畑 直彦, 信岡 政樹

第84回応用物理学会秋季学術講演会 (熊本城ホールほか3会場, 2023年9月19-23日) p.12_010 [19a-A301-9].  2023年09月  -  2023年09月   

Crystallization by Rapid Thermal Annealing of Ne Sputtered InSb Films Deposited on Glass

T. Okada, O. Shimoda, C. J. Koswaththage, T. Kajiwara, T. Sadoh, and T. Noguchi

The 23rd International Meeting on Information Display (BEXCO, Busan, Korea, August 22-25, 2023)  2023年08月  -  2023年08月   

青色ダイレクトダイオードレーザを用いたスパッタ製膜a-Si膜の結晶化(その3)

岡田 竜弥, 野口 隆, 菱田 光起, 宮野 謙太郎, 小畑 直彦, 信岡 政樹

第70回応用物理学会春季学術講演会 (上智大学 四ッ谷キャンパス+オンライン, 2023年3月15-18日).  2023年03月  -  2023年03月   

急速熱処理法によるInSb薄膜/ガラス基板の高品位形成

梶原 隆司，岡田 竜弥，チャリット ジャヤナダ コスワッタゲー, 野口 隆, 佐道 泰造

第70回応用物理学会春季学術講演会 (上智大学 四ッ谷キャンパス+オンライン, 2023年3月15-18日).  2023年03月  -  2023年03月   

Crystallization of a-Si Films deposited by RF Sputtering using Blue Direct Diode Laser

M. Hishida, N. Kobata, K. Miyano, M. Nobuoka, T. Okada, and T. Noguchi

Photonics West 2023 (San Francisco, California, US, January 28 - February 2, 2023) [12409-44].  2023年01月  -  2023年02月   

Formation of High-Mobility InSb Films on Glass by Sputtering and Rapid-Thermal Annealing

Takashi Kajiwara, Otokichi Shimoda, Tatsuya Okada, Charith Jayanada Koswaththage, Takashi Noguchi, and Taizoh Sadoh

International Conference on Solid State Devices and Materials (Makuhari Messe, Chiba, Japan, September 26-29, 2022) pp.105-106 [B-5-05].  2022年09月  -  2022年09月   

デバイスシミュレータを用いたTi ソース/ドレイン構造poly-Si TFT の特性評価

澤間 佑葵, 岡田 竜弥

第69回応用物理学会春季学術講演会 (青山学院大学+オンライン, 2022年3月22-26日) p.12_206 [24p-E103-13].  2022年03月  -  2022年03月   

青色ダイレクトダイオードレーザを用いたスパッタ製膜a-Si 膜の結晶化(その2)

菱田 光起, 宮野 謙太郎,小畑 直彦, 信岡 政樹, 野口 隆, 岡田 竜弥

第69回応用物理学会春季学術講演会 (青山学院大学+オンライン, 2022年3月22-26日) p.12-207 [24p-E103-14].  2022年03月  -  2022年03月   

Neを用いてガラス上にスパッタ堆積したInSb膜のRTAによる結晶化

霜田 音吉，C. J. コスワッタゲー, 野口 隆，梶原 隆司，佐道 泰造, 岡田 竜弥

第69回応用物理学会春季学術講演会 (青山学院大学+オンライン, 2022年3月22-26日) p.12_208 [24p-E103-15].  2022年03月  -  2022年03月   

デバイスシミュレータを用いた金属ソース/ドレイン構造poly-Si TFTの特性評価

澤間 佑葵, 岡田 竜弥

令和3年度 電気学会九州支部沖縄支所講演会 (琉球大学(Zoom), 2021年12月11日) [OKI-2021-07].  (琉球大学)  2021年12月  -  2021年12月   

急速熱処理法によるInSb薄膜/ガラス基板の結晶成長

梶原 隆司, 霜田 音吉, 岡田 竜弥, チャリット ジャヤナダ コスワッタゲー, 野口 隆, 佐道 泰造

第82回応用物理学会秋季学術講演会 (名城大学(オンライン開催), 2021年9月10-13日) p.12_043 [10p-N302-11].  2021年09月  -  2021年09月   

青色ダイレクトダイオードレーザを用いたスパッタ製膜a-Si 膜の結晶化

岡田 竜弥, 野口 隆, 菱田 光起, 宮野 謙太郎,小畑 直彦, 信岡 政樹

第82回応用物理学会秋季学術講演会 (名城大学(オンライン開催), 2021年9月10-13日) p.12_033 [10p-N302-3].  2021年09月  -  2021年09月   

Crystallization of SiN Capped InSb Films on Glass by Rapid Thermal Annealing

O. Shimoda, Y. Sawama, C. J. Koswaththage, T. Noguchi, T. Kajiwara, T. Sadoh, and T. Okada

The 21st International Meeting on Information Display (COEX, Seoul, Korea (ON/OFF-LINE Hybrid Event), August 25-27, 2021) p.396 [P5-40].  2021年08月  -  2021年08月   

絶縁基板上Si薄膜の結晶化における課題

野口 隆, 岡田 竜弥

シリコン材料・デバイス研究会 (沖縄青年会館, 2021年4月23-24日) pp.13-14 [SDM2021-3].  2021年04月  -  2021年04月   

SiNキャッピングしたガラス上InSb膜のRTAによる結晶化

阪本 弦太, 島袋 明香, 野口 隆, 岡田 竜弥

第68回応用物理学会春季学術講演会 (オンライン開催, 2021年3月16-19日) p.12_175 [18p-Z24-8].  2021年03月  -  2021年03月   

SiNキャッピングしたガラス上InSb薄膜のRTAによる結晶化

阪本 弦太, 島袋 明香, 野口 隆, 岡田 竜弥

令和2年度 電気学会九州支部沖縄支所講演会 (琉球大学, 2020年12月12日) [OKI-2020-30].  2020年12月  -  2020年12月   

Issues and the Improvement to the Crystallization of a-Si Films for LTPS TFTs on Arbitrary Panels

T. Noguchi, and T. Okada

The 20th International Meeting on Information Display (Online Conference, August 25-28, 2020) p.120 [05_1583].  2020年08月  -  2020年08月   

一括ELAによるPC基板上a-Si薄膜の結晶化シミュレーション解析

中面 僚介, 時枝 大祐, 阪本 弦太, 岡田 竜弥, 野口 隆

第67回応用物理学会春季学術講演会 (上智大学, 2020年3月12-15日) p.11_367 [15p-A305-2].  2020年03月  -  2020年03月   

パネル上a-Si薄膜の結晶化における課題(2)

野口 隆, 岡田 竜弥

第67回応用物理学会春季学術講演会 (上智大学, 2020年3月12-15日) p.11_366[15p-A305-1].  2020年03月  -  2020年03月   

パネル上a-Si 薄膜の結晶化における課題

野口 隆, 岡田 竜弥

第80回応用物理学会秋季学術講演会 (北海道大学, 2019年9月18-21日) [18a-E304-7].  2019年09月  -  2019年09月   

Study of Leakage Current for Poly-Silicon Thin-Film Transistors with Metal-Source/Drain contact by BLDA

K. Lee, K. Shimai, W. Choi, T. Okada, and T. Noguchi

The 19th International Meeting on Information Display (HICO, Gyeongju, Korea, August 27-30, 2019) p.342 [P02-57].  (HICO, Gyeongju, Korea)  2019年08月  -  2019年08月   

Effect of 4% H2 Annealing to Poly-Si TFTs on Polyimide

D. Tokieda, Y. Ishiki, T. Okada, T. Noguchi, and T. Okuyama

The 19th International Meeting on Information Display (HICO, Gyeongju, Korea, August 27-30, 2019) p.327 [P02-42].  (HICO, Gyeongju, Korea)  2019年08月  -  2019年08月   

Attractive Crystallization of Semiconductor Films

T. Noguchi, T. Okada, and C. J. Koswaththage

The 19th International Meeting on Information Display (HICO, Gyeongju, Korea, August 27-30, 2019) p.226 [B20-3].  (HICO, Gyeongju, Korea)  2019年08月  -  2019年08月   

Metal Source/Drain Structure TFTs using poly-Si Crystallized by Blue Multi-Laser Diode Annealing

T. Okada, and T. Noguchi

15th International Thin-Film Transistor Conference (Okinawa, Japan, February 28 - March 2, 2019) pp.54-55 [3H2-inv].  (Okinawa, Japan)  2019年02月  -  2019年03月   

Lumped ELA with long pulse duration for Si film on panel

R. Nakatsura, Y. Ishiki, T. Okada, T. Noguchi, T. Morimura, A. Ota, O. Nishikata, and J. Kiyota

15th International Thin-Film Transistor Conference (Okinawa, Japan, February 28 - March 2, 2019) pp.82-83 [ST2-2].  (Okinawa, Japan)  2019年02月  -  2019年03月   

Crystallization of Si films sputtered by Ne or Xe gas on PC using ELA

Y. Ishiki, T. Okada, T. Noguchi, and N. Kawamoto

15th International Thin-Film Transistor Conference (Okinawa, Japan, February 28 - March 2, 2019) pp.80-81 [ST2-1].  (Okinawa, Japan)  2019年02月  -  2019年03月   

Proposal of Stable Laser Crystallization of Si Film for Flexible Panel

R. Nakatsura, Y. Ishiki, T. Okada, and T. Noguchi

25th International Display Workshops (Nagoya Congress Center, December 12-14, 2018) pp.413-414 [AMDp2-15L].  (Nagoya Congress Center)  2018年12月  -  2018年12月   

Analysis of CMOS Inverters on AC Operation Formed by Low Temperature Poly-Silicon TFTs with Metal Source-Drain Using BLDA

K. Lee, K. Shimai, W. Choi, T. Okada, T. Noguchi

25th International Display Workshops (Nagoya Congress Center, December 12-14, 2018) pp.371-374 [AMDp2-2].  (Nagoya Congress Center)  2018年12月  -  2018年12月   

低温PE-CVD膜を用いたPoly-Si TFTの実現

時枝 大祐, 伊敷 優哉, 岡田 竜弥, 野口 隆

平成30年度 電気学会九州支部沖縄支所講演会 (琉球大学, 2018年12月8日) [OKI-2018-42].  (琉球大学)  2018年12月  -  2018年12月   

金属誘起結晶法(MIC法)によるガラス上P-dope-Si膜の低温結晶化と低抵抗化

阪本 弦太, 西原 正太郎, 岡田 竜弥, 野口 隆

平成30年度 電気学会九州支部沖縄支所講演会 (琉球大学, 2018年12月8日) [OKI-2018-50].  (琉球大学)  2018年12月  -  2018年12月   

Auを使用したMIC(Metal Induced Crystallization)法によるガラス上Si 薄膜の低温結晶化

西原 正太郎, 阪本 弦太, 岡田 竜弥, 野口 隆

平成30年度 電気学会九州支部沖縄支所講演会 (琉球大学, 2018年12月8日) [OKI-2018-46].  (琉球大学)  2018年12月  -  2018年12月   

ガラス上にスパッタ製膜したInSb膜の熱効果による高移動度追求

永井 大地, 伊敷 優哉, 岡田 竜弥, 野口 隆

平成30年度 電気学会九州支部沖縄支所講演会 (琉球大学, 2018年12月8日) [OKI-2018-45].  (琉球大学)  2018年12月  -  2018年12月   

ZnS-SiO2薄膜を用いたフローティングゲートMOS型メモリの可能性評価

辻本 耕平, 岡田 竜弥, 野口 隆

平成30年度 電気学会九州支部沖縄支所講演会 (琉球大学, 2018年12月8日) [OKI-2018-44].  (琉球大学)  2018年12月  -  2018年12月   

ELA(Excimer Laser Annealing)によるPolyimide上a-Si薄膜の結晶化機構

中面 僚介, 伊敷 優哉, 岡田 竜弥, 野口 隆

平成30年度 電気学会九州支部沖縄支所講演会 (琉球大学, 2018年12月8日) [OKI-2018-43].  (琉球大学)  2018年12月  -  2018年12月   

Solution Based Al2O3 Gate Insulator for Low Temperature Poly Silicon TFT

H.C. Yang, S.H. Hwang, Y.J. Baek, S.M. Lee, T. Okada, T. Noguchi, and B.S. Bae

American International Meeting on Electrochemistry and Solid State Science (Cancun, Mexico, September 30 - Octover 4, 2018) [1228].  (Cancun, Mexico)  2018年09月  -  2018年10月   

Advanced Crystallization using Blue Laser-Diode Annealing for Low Temperature Poly Si TFTs

T. Noguchi, and T. Okada

American International Meeting on Electrochemistry and Solid State Science (Cancun, Mexico, September 30 - Octover 4, 2018) [1197].  (Cancun, Mexico)  2018年09月  -  2018年10月   

青色半導体レーザにより結晶化したpoly-Si膜を用いた金属S/D構造TFT

岡田 竜弥, 伊敷 優哉, 野口 隆

第79回応用物理学会秋季学術講演会 (名古屋国際会議場, 2018年9月18-21日)  (名古屋国際会議場)  2018年09月  -  2018年09月   

Effective Laser Crystallization

T. Noguchi, Y. Ishiki, T. Okada, T. Morimura, A. Ota, and Y. Nishikata

The 18th International Meeting on Information Display (BEXCO, Busan, Korea, August 28-31, 2018) p.59 [G15-3]  (BEXCO, Busan, Korea)  2018年08月  -  2018年08月   

High Mobility Poly-Si TFT Formed on Flexible Polyimide using Low Temperature Process

F. Gakiya, D. Tokieda, Y. Ishiki, T. Okada, T. Noguchi, and T. Okuyama

The 18th International Meeting on Information Display (BEXCO, Busan, Korea, August 28-31, 2018) p.323 [P1-67]  (BEXCO, Busan, Korea)  2018年08月  -  2018年08月   

Photo-sensors using poly-Si Thin Films Crystallized by BLDA for System on Panel Application

T. Okada, T. Higashizako, C. J. Koswaththage, T. Noguchi, T. Morimura, O. Nishikata, and A. Ota

The 18th International Meeting on Information Display (BEXCO, Busan, Korea, August 28-31, 2018) p.248 [G63-3]  (BEXCO, Busan, Korea)  2018年08月  -  2018年08月   

Photo-sensors using poly-Si Thin Films Crystallized by BLDA for System on Panel Application

K. Lee, K. Shimai, W. Choi, T. Okada, T. Noguchi

The 18th International Meeting on Information Display (BEXCO, Busan, Korea, August 28-31, 2018)  (BEXCO, Busan, Korea)  2018年08月  -  2018年08月   

Crystallization of Si film on PolyCarbonate for Low-Cost LTPS TFT formed below 200℃

Y. Ishiki, F. Gakiya, T. Okada, T. Noguchi, and N. Kawamoto

The 18th International Meeting on Information Display (BEXCO, Busan, Korea, August 28-31, 2018) p.60 [G15-4]  (BEXCO, Busan, Korea)  2018年08月  -  2018年08月   

結晶化したガラス上InSb膜のキャッピング効果

コスワッタゲー チャリット ジャヤナダ, 東迫 達行, 岡田 竜弥, 野口 隆, 田中 宏怜, 古田 守

第65回応用物理学会春季学術講演会 (早稲田大学西早稲田キャンパス, 2018年3月17-20日) p.12_117 [17p-C101-2].  2018年03月  -  2018年03月   

青色半導体レーザアニール(BLDA)による脱水素処理をしないシリコン薄膜への低温結晶化

野口 隆, 我喜屋 風太, 伊敷 優哉, 岡田 竜弥, 森村 太郎, 太田 淳, 西方 靖

第65回応用物理学会春季学術講演会 (早稲田大学西早稲田キャンパス, 2018年3月17-20日) p.12_120 [17p-C101-5].  2018年03月  -  2018年03月   

Poly-Crystallization of Semiconductor Thin-Films for Functional TFT System on Panel

T. Noguchi, C. J. Koswaththage, and T. Okada

14th International Thin-Film Transistor Conference (Guangzhou, China, February 28 - March 2, 2018)  2018年02月  -  2018年03月   

Electron Hall Mobility of Ne and Ar Sputtered InSb films for Advanced Sensor Applications on Glass

C. J. Koswaththage, T. Higashizako, T. Okada, T. Noguchi, H. Tanaka, and M. Furuta

14th International Thin-Film Transistor Conference (Guangzhou, China, February 28 - March 2, 2018)  2018年02月  -  2018年03月   

Thermal Analysis of Si Films on Polyimide Sheet during ELA

T. Okada, Y. Mashiyama, and T. Noguchi

14th International Thin-Film Transistor Conference (Guangzhou, China, February 28 - March 2, 2018)  2018年02月  -  2018年03月   

RTAを施したSi薄膜の固相結晶化

杉山 寿斗, Koswaththage Charith Jayanada, 東迫 達行, 岡田 竜弥, 野口 隆

平成29年度 電気学会九州支部沖縄支所講演会 (琉球大学, 2017年12月10日) [OKI-2017-38].  2017年12月  -  2017年12月   

TFTのソース・ドレイン領域形成のための塗布法によるSi薄膜の電気的活性化

石井 洸一, 我喜屋 風太, 東迫 達行, 伊敷 優哉, 岡田 竜弥, 野口 隆

平成29年度 電気学会九州支部沖縄支所講演会 (琉球大学, 2017年12月10日) [OKI-2017-49]  2017年12月  -  2017年12月   

ガラス上に堆積させたCVD Si膜のレーザー結晶化

伊敷 優哉, 我喜屋 風太, 東迫 達行, 岡田 竜弥, 野口 隆

平成29年度 電気学会九州支部沖縄支所講演会 (琉球大学, 2017年12月10日) [OKI-2017-47].  2017年12月  -  2017年12月   

フレキシブル基板PI（Polyimide）上のa-Si薄膜の結晶化の温度解析

増山裕貴, 岡田 竜弥, 野口 隆

平成29年度 電気学会九州支部沖縄支所講演会 (琉球大学, 2017年12月10日) [OKI-2017-46].  2017年12月  -  2017年12月   

TFTのソース・ドレイン領域形成を目指したPドープSi膜のFA後の結晶性・活性化評価

澤入 慶, 我喜屋 風太, 東迫 達行, 伊敷 優哉, 岡田 竜弥, 野口 隆

平成29年度 電気学会九州支部沖縄支所講演会 (琉球大学, 2017年12月10日) [OKI-2017-39].  2017年12月  -  2017年12月   

Reduction of leakage current for poly-Si TFTs with metal source/drain by dual gate structure

F. Gakiya, T. Harada, Y. Ishiki, T. Okada and T. Noguchi

Proc. of the 24th International Display Workshops (Sendai International Center, December 6-8, 2017) pp.447-449 [AMDp2-1].  2017年12月  -  2017年12月   

Proposal of a-Si film Photo-Sensors Integrating with Poly-Si TFT System on Flexible Polymer

T. Higashizako, C. J. Koswaththage, T. Okada, T. Noguchi, T. Morimura, O. Nishikata, and A. Ota

Proc. of the 24th International Display Workshops (Sendai International Center, December 6-8, 2017) pp.1577-1579 [FLXp1-11L].  2017年12月  -  2017年12月   

High Mobility InSb Film with Poly-Si TFTs Formed by Laser Annealing for Flexible Advanced System on Polymer

C. J. Koswaththage, T. Harada, F. Gakiya, T. Higashizako, Y. Ishiki, T. Okada, and T. Noguchi

Proc. of the 24th International Display Workshops (Sendai International Center, December 6-8, 2017) pp.1515-1517 [FLX3-4L].  2017年12月  -  2017年12月   

ELA結晶化中のポリイミド基板上a-Si膜の温度解析

岡田 竜弥, 我喜屋 風太, 伊敷 優哉, 野口 隆

第78回応用物理学会秋季学術講演会 (福岡国際会議場, 2017年9月5-8日) p.12_241 [7a-C21-8].  2017年09月  -  2017年09月   

青色半導体レーザを照射したInSb膜の電気的特性

コスワッタゲー チャリット ジャヤナダ, 東迫 達行, 岡田 竜弥, 野口 隆

第78回応用物理学会秋季学術講演会 (福岡国際会議場, 2017年9月5-8日) p.13_080 [5p-C21-11].  2017年09月  -  2017年09月   

Thermal Calculation of a-Si Films on Polyimide during Excimer Laser Annealing

T. Okada, F. Gakiya, Y. Ishiki, and T. Noguchi

The 17th International Meeting on Information Display (BEXCO, Busan, Korea, August 28-31, 2017) [P2-55].  2017年08月  -  2017年08月   

Dependence of Poly-Si TFT Performance on Scanning Direction of BLDA (Blue Laser Diode Annealing)

Y. Ishiki, F. Gakiya, T. Okada, and T. Noguchi

The 17th International Meeting on Information Display (BEXCO, Busan, Korea, August 28-31, 2017) [D28-4].  2017年08月  -  2017年08月   

Sputtered InSb film after RTA for Magnetic Sensor Applications

C. J. Koswaththage, T. Higashizako, T. Okada, and T. Noguchi

The 17th International Meeting on Information Display (BEXCO, Busan, Korea, August 28-31, 2017) [D36-4].  2017年08月  -  2017年08月   

Effective annealing for Si film and for junction formation

T. Noguchi, T. Okada, and Y. Chen

2017 Asia-Pacific Workshop on Fundamentals and Applications of Advanced Semiconductor Devices (Gyeongju, Korea, July 3-5, 2017) [2B-2].  2017年07月  -  2017年07月   

ELA結晶化Si膜によるフレキシブル基板上のメタルソース・ドレイン構造TFT

原田 大成, 我喜屋 風太, 伊敷 優哉, 岡田 竜弥, 野口 隆, 野田 勘治, 諏訪 輝, 池上 浩

第64回応用物理学会春季学術講演会 (パシフィコ横浜, 2017年3月14-17日) p.12_004 [14a-304-4].  2017年03月  -  2017年03月   

Low Temperature Crystallization of Si films for TFTs by Laser Annealing on Flexible Panels

Takashi Noguchi, and Tatsuya Okada

13th International Thin-Film Transistor Conference (Austin, Tx, USA, February 23-24, 2017) p.15.  2017年02月  -  2017年02月   

Ultra-high Carrier Mobility InSb Film by Rapid Thermal Annealing for Advanced Sensor Applications on Glass

Charith Jayanada Koswaththage, Tatsuya Okada, Shinichi Taniguchi, Shokichi Yoshitome, and Takashi Noguchi

13th International Thin-Film Transistor Conference (Austin, Tx, USA, February 23-24, 2017) pp.31-32.  2017年02月  -  2017年02月   

BLDAを照射したSi薄膜の電極形成前後におけるH2アニールの効果

東迫 達行, コスワッタゲー チャリット ジャヤナダ, 岡田 竜弥, 野口 隆

平成28年度 電気学会九州支部沖縄支所講演会 (琉球大学, 2016年12月11日) [OKI-2016-46].  2016年12月  -  2016年12月   

急速熱アニールを行ったGe薄膜の結晶性・電気的特性の評価

太田 信長, コスワッタゲー チャリット ジャヤナダ, 東迫 達行, 岡田 竜弥, 野口 隆

平成28年度 電気学会九州支部沖縄支所講演会 (琉球大学, 2016年12月11日) [OKI-2016-48].  2016年12月  -  2016年12月   

Poly-Si TFT特性のBLDA(Blue-Multi-Laser-Diode-Annealing)走査方向依存性

伊敷 優哉, 我喜屋 風太, 原田 大成, 岡田 竜弥, 野口 隆

平成28年度 電気学会九州支部沖縄支所講演会 (琉球大学, 2016年12月11日) [OKI-2016-47].  2016年12月  -  2016年12月   

Effect of Hydrogen Annealing of Si TFTs with Metal Source/Drain formed using BLDA

T. Harada, T. Ashitomi, T. Okada, T. Noguchi, O. Nishikata, A. Ota, and K. Saito

Proc. of the 23rd International Display Workshops (Fukuoka, December 7-9, 2016) pp.433-435 [AMDp2-7].  2016年12月  -  2016年12月   

Effect of Low-temperature Annealing of Sputtered SiO2 for Gate Insulator in Poly-Si TFTs on Panel

H. Tamashiro, K. Imura, T. Okada, T. Noguchi

Proc. of the 23rd International Display Workshops (Fukuoka, December 7-9, 2016) pp.448-449 [AMDp2-13L].  2016年12月  -  2016年12月   

Ultra-low temperature Si TFTs with metal source-drain using ELA for flexible sheet

T. Harada, F. Gakiya, Y. Ishiki, T. Okada, T. Noguchi, K. Noda, A. Suwa, H. Ikenoue

Proc. of the 23rd International Display Workshops (Fukuoka, December 7-9, 2016) pp.444-445 [AMDp2-11L].  2016年12月  -  2016年12月   

青色半導体レーザアニールを用いたSi膜の結晶化

岡田 竜弥, 野口 隆

第77回応用物理学会秋季学術講演会 (朱鷺メッセ, 2016年9月13-16日) p.100000001_119 [14p-B7-5].  2016年09月  -  2016年09月   

ＥＬＡ（エキシマレーザアニール）による接合型Ｓｉ太陽電池の表面反射防止膜による特性の向上

鈴木 仁, 楊 天熙, 岡田 竜弥，野口 隆, 河本 直哉

第77回応用物理学会秋季学術講演会 (朱鷺メッセ, 2016年9月13-16日) p.12_210 [15a-B10-8].  2016年09月  -  2016年09月   

Calculation of Temperature Distribution in Si Films on Polyimide during Blue Multi-Laser Diode Annealing

T. Okada, Y. Shizu, and T. Noguchi

The 16th International Meeting on Information Display (Jeju, Korea, August 23-26, 2016)  2016年08月  -  2016年08月   

Photoelectric Characteristics of Lateral Thin Film Si Photodiode by Metal Electrodes for SoP

T. Higashizako, C. J. Koswththage, K. Nakao, T. Okada, and T. Noguchi

The 16th International Meeting on Information Display (Jeju, Korea, August 23-26, 2016)  2016年08月  -  2016年08月   

Advanced Low Temperature Crystallization of PE CVD Si Films without De-Hydrogenation using BLDA (Blue Laser Diode Annealing)

F. Gakiya, T. Ashitomi, T. Harada, T. Okada, T. Noguchi, O. Nishikata, A. Ota, and K. Saito

The 16th International Meeting on Information Display (Jeju, Korea, August 23-26, 2016)  2016年08月  -  2016年08月   

A high performance low-voltage power MOSFETs realized by laser annealing process

Y. Chen, T. Okada, and T. Noguchi

2016 Asia-Pacific Workshop on Fundamentals and Applications of Advanced Semiconductor Devices (Hakodate, July 4-6, 2016)  2016年07月  -  2016年07月   

Low-cost low-temperature poly-Si thin film transistor

T. Noguchi, and T. Okada

2016 Asia-Pacific Workshop on Fundamentals and Applications of Advanced Semiconductor Devices (Hakodate, July 4-6, 2016)  2016年07月  -  2016年07月   

レーザーアニール技術の高性能パワー素子プロセスへの応用

陳 訳，岡田 竜弥，野口 隆, マッツァムト フルビオ, ヒュエット カリム

第63回応用物理学会春季学術講演会 (東工大, 2016年3月19-22日)  2016年03月  -  2016年03月   

青色半導体レーザアニール中のポリイミド上Si膜の温度解析

岡田 竜弥, 志津 勇介, 野口 隆

第63回応用物理学会春季学術講演会 (東工大, 2016年3月19-22日)  2016年03月  -  2016年03月   

n+p接合太陽電池に対する水素アニールの最適化

楊 天熙, 魏 煌, 岡田 竜弥, 野口 隆, 河本 直哉

第63回応用物理学会春季学術講演会 (東工大, 2016年3月19-22日)  2016年03月  -  2016年03月   

スパッタSi膜へのマルチショットELAとメタルソース・ドレイン構造TFT

原田 大成, 我喜屋 風太, 安次富 卓哉, 岡田 竜弥, 野口 隆, 野田 勘治, 諏訪 明, 池上 浩, 奧山 哲雄

第63回応用物理学会春季学術講演会 (東工大, 2016年3月19-22日)  2016年03月  -  2016年03月   

低コストのCMOSを目指した金属ソース・ドレイン電極によるpチャネル型TFTの実現

安次富 卓哉, 原田 大成, 岡田 竜弥, 野口 隆, 西方靖, 太田淳

第63回応用物理学会春季学術講演会 (東工大, 2016年3月19-22日)  2016年03月  -  2016年03月   

急速熱処理したInSb膜の電気的特性

コスワッタゲー チャリット ジャヤナダ, 野口 隆, 谷口 慎一, 吉留 省吉

第63回応用物理学会春季学術講演会 (東工大, 2016年3月19-22日)  2016年03月  -  2016年03月   

Stable Crystallization of a-Si Film on a Flexible Substrate

T. Ashitomi, T. Harada, K. Nakao, C. J. Koswaththage, T. Okada, T. Noguchi, N. Kawamoto, H. Ikenoue, T. Okuyama, A. Suwa, K. Noda

Proc. of the 22nd International Display Workshops (Otsu Prince Hotel, Otsu, December 9-11, 2015)  2015年12月  -  2015年12月   

低コスト化に向けたTFTのメタルソース・ドレイン領域評価

我喜屋 風太, 原田 大成, 安次富 卓哉, 岡田 竜弥, 野口 隆

平成27年度 電気学会九州支部沖縄支所講演会 (琉球大学, 2015年12月19日)  2015年12月  -  2015年12月   

熱処理により得られる多結晶Ge薄膜の結晶性の評価

小山 翔, C. J. Koswaththage, 中尾 浩太, 岡田 竜弥, 野口 隆

平成27年度 電気学会九州支部沖縄支所講演会 (琉球大学, 2015年12月19日)  2015年12月  -  2015年12月   

パネル上フォトセンサに向けたメタル電極による横型薄膜Siフォトダイオードの光電特性

東迫 達行, C. J. Koswaththage, 中尾 浩太, 岡田 竜弥, 野口 隆

平成27年度 電気学会九州支部沖縄支所講演会 (琉球大学, 2015年12月19日)  2015年12月  -  2015年12月   

エキシマレーザアニール(ELA)によるpn接合太陽電池

楊 天熙, 魏 煌, 岡田 竜弥，野口 隆, 河本 直哉

平成27年度応用物理学会九州支部学術講演会 (琉球大学, 2015年12月5-6)  2015年12月  -  2015年12月   

Photosensitivity of Ge Film after Furnace Annealing

C.J. Koswaththage, K. Nakao, K. Koyama, T. Okada, T. Noguchi

JSAP Kyushu Chapter Annual Meeting 2015 (Univ. Ryukyus, December 5-6, 2015)  2015年12月  -  2015年12月   

BLDAを用いて作製したTFTの水素アニール温度依存性

原田 大成, 安次富 卓哉, 岡田 竜弥, 野口 隆

平成27年度応用物理学会九州支部学術講演会 (琉球大学, 2015年12月5-6)  2015年12月  -  2015年12月   

Appearance of p-channel TFT performance with metalsource-drain using BLDA aiming for low-cost CMOS

Takuya Ashitomi, Taisei Harada, Kiyoharu Shimoda, Tatsuya Okada, and Takashi Noguchi, Osamu Nishikata, Atsushi Ota and Kazuya Saito

Proc. of the 22nd International Display Workshops (Otsu Prince Hotel, Otsu, December 9-11, 2015)  2015年12月  -  2015年12月   

Evaluation of SiO2 Films for the Application to a Flexible Substrate

K. Imura, T. Okada, H. Tamashiro, T. Ashitomi, and T. Noguchi

International Conference on Intelligent Informatics and BioMedical Sciences (Okinawa, November 28-30, 2015)  2015年11月  -  2015年11月   

レーザーアニールプロセスの高性能パワー素子への応用

陳 訳, 岡田 竜弥, 野口 隆, マッツァムト フルビオ, ヒュエット カリム

第76回応用物理学会秋季学術講演会 (名古屋国際会議場, 2015年9月13-16日)  2015年09月  -  2015年09月   

RFスパッタ法を用いて室温製膜したSiO2膜のH2アニール効果

井村 公彦, 岡田 竜弥, 玉城 光, 野口 隆

第76回応用物理学会秋季学術講演会 (名古屋国際会議場, 2015年9月13-16日)  2015年09月  -  2015年09月   

アニールによるpn接合太陽電池の形成

魏 煌, 楊 天熙, 新垣 喬之, 岡田 竜弥, 野口 隆, 河本 直哉

第76回応用物理学会秋季学術講演会 (名古屋国際会議場, 2015年9月13-16日)  2015年09月  -  2015年09月   

Increase in Photoconductivity of Silicon Films after BLDA by Back-Reflection Ti Layer for System on Glass

Kota Nakao, Charith Jayanada Koswaththage, Tatsuya Okada and Takashi Noguchi

The 15th International Meeting on Information Display (Daegu, Korea, August 18-21, 2015)  2015年08月  -  2015年08月   

New Laser Crystallization for LTPS on Panel

Takashi NOGUCHI, Takuya ASHITOMI, Kiyoharu SHIMODA, Kimihiko IMURA, Kota NAKAO, Charith J. KOSWATHTHAGE and Tatsuya OKADA

The 15th International Meeting on Information Display (Daegu, Korea, August 18-21, 2015)  2015年08月  -  2015年08月   

Effect of Low Temperature Annealing of Sputtered SiO2 for Gate Insulator in Poly-Si TFTs

Hikaru Tamashiro, Kimihiko Imura, Tatsuya Okada, and Takashi Noguchi

The 15th International Meeting on Information Display (Daegu, Korea, August 18-21, 2015)  2015年08月  -  2015年08月   

Reduction of leakage current of poly-Si TFTs with metal source/drain by dual gate structure

Taisei Harada, Takuya Ashitomi, Kiyoharu Shimoda, Wataru Narisoko, Tatsuya Okada and Takashi Noguchi, Osamu Nishikata, Atsushi Ota and Kazuya Saito, Sang-Yun Kim, Jin-Kuk Kim and Byung Seong Bae

The 15th International Meeting on Information Display (Daegu, Korea, August 18-21, 2015)  2015年08月  -  2015年08月   

Study on hydrogenation after BLDA in Si TFT with Metal source/drain

K. Shimoda, T. Ashitomi, T. Okada, T. Noguchi, O. Nishikata and A. Ota

International Workshop on Active-Matrix Liquid-Crystal Displays (Kyoto, July 1-3, 2015)  2015年07月  -  2015年07月   

A New Application of Laser Annealing Process in Low-Voltage Power MOSFETs

Yi Chen, Tatsuya Okada, Takashi Noguchi, Fulvio MAZZAMUTO, and Karim HUET

2015 Asia-Pacific Workshop on Fundamentals and Applications of Advanced Semiconductor Devices (Jeju, Korea, June 29 - July 1, 2015)  2015年06月  -  2015年06月   

Remarkable Increase in Conductivity of Phosphorus Doped Si Films by Laser Crystallization

T. Noguchi, and T. Okada

2015 Asia-Pacific Workshop on Fundamentals and Applications of Advanced Semiconductor Devices (Jeju, Korea, June 29 - July 1, 2015)  2015年06月  -  2015年06月   

Ne雰囲気スパッタSi膜(500 nm厚)への青色レーザによる結晶化

具志堅 貴也, 若杉 智英, 岡田 竜弥, 野口 隆, 河本 直哉

第62回応用物理学会春季学術講演会 (東海大学, 2015年3月11-14日)  2015年03月  -  2015年03月   

青色半導体レーザアニール中のSi膜内光吸収量解析

岡田 竜弥, 神村 盛太, 野口 隆

第62回応用物理学会春季学術講演会 (東海大学, 2015年3月11-14日)  2015年03月  -  2015年03月   

脱水素無しのアモルファスSi薄膜に対するBLDA低抵抗化

若杉 智英, 安次富 卓哉, 岡田 竜弥, 野口 隆, 西方 靖, 太田 淳, 井上 和久, 山田 一雄

第62回応用物理学会春季学術講演会 (東海大学, 2015年3月11-14日)  2015年03月  -  2015年03月   

パネル上高感度フォトセンサ応用へのBLDAによる多層膜構造Si膜の結晶性向上

中尾 浩太, コスワッタゲー チャリット ジャヤナダ, 若杉 智英, 岡田 竜弥, 野口 隆

第62回応用物理学会春季学術講演会 (東海大学, 2015年3月11-14日)  2015年03月  -  2015年03月   

Highly Photoconductive Si film Formed by Blue-Multi Laser Diode Annealing for System on Panel

C. J. Koswaththage, K. Nakao, T. Okada, and T. Noguchi

11th International Thin-Film Transistor Conference (Rennes, France, February 26-27, 2015)  2015年02月  -  2015年02月   

Low-Cost LTPS Using Blue Laser Diode Annealing

T. Noguchi, K. Shimoda, T. Ashitomi, K. Nakao, C. J. Koswaththage, and T. Okada

11th International Thin-Film Transistor Conference (Rennes, France, February 26-27, 2015)  2015年02月  -  2015年02月   

Temperature Analysis of Si Films during Blue Multi-Laser Diode Annealing

T. Okada, S. Kamimura, and T. Noguchi

11th International Thin-Film Transistor Conference (Rennes, France, February 26-27, 2015)  2015年02月  -  2015年02月   

Energy Efficiency of Laser on Crystallization Technologies for LTPS

T. Itoh, T. Okada, and T. Noguchi

11th International Thin-Film Transistor Conference (Rennes, France, February 26-27, 2015)  2015年02月  -  2015年02月   

単結晶薄膜Si太陽電池の計算シミュレーション

具志堅 貴也, 加島 陽, 伊芸 大輔, 岡田 竜弥, 野口 隆

平成26年度 電気学会九州支部沖縄支所講演会 (琉球大学, 2014年11月29日)  2014年11月  -  2014年11月   

微細化したSi膜のBLDA(Blue Laser Diode Annealing)による電気特性の向上

コスワッタゲー チャリット ジャヤナダ, 中尾 浩太, 岡田 竜弥, 野口 隆

平成26年度 電気学会九州支部沖縄支所講演会 (琉球大学, 2014年11月29日)  2014年11月  -  2014年11月   

ガラス基板上a-Si膜に対するBLDA加熱温度解析

神村 盛太, 岡田 竜弥, 野口 隆

平成26年度 電気学会九州支部沖縄支所講演会 (琉球大学, 2014年11月29日)  2014年11月  -  2014年11月   

TFTのゲート酸化膜応用をめざしたスパッタ製膜SiO2の低温アニール前後の電気的特性評価

玉城 光, 井村 公彦, 岡田 竜弥, 野口 隆

平成26年度 電気学会九州支部沖縄支所講演会 (琉球大学, 2014年11月29日)  2014年11月  -  2014年11月   

透明導電膜付きポリカーボネート基板上における多結晶シリコン薄膜の結晶成長

河本 直哉, 只友 一行, 野口 隆, 岡田 竜弥

第75回応用物理学会秋季学術講演会 (北海道大学, 2014年9月17-20日)  2014年09月  -  2014年09月   

ブルーレーザダイオードアニール法によるSiの低温結晶化とデバイス応用

野口 隆, 岡田 竜弥

第75回応用物理学会秋季学術講演会 (北海道大学, 2014年9月17-20日)  2014年09月  -  2014年09月   

O2混合Arスパッタにより成膜した高耐圧SiO2膜の電気特性評価

岡田 竜弥，井村 公彦，野口 隆

第75回応用物理学会秋季学術講演会 (北海道大学, 2014年9月17-20日)  2014年09月  -  2014年09月   

High Quality SiO2 Films Deposited by RF Sputtering at Room Temperature for TFTs

K. Imura, T. Okada, and T. Noguchi

IUMRS International Conference in Asia 2014 (Fukuoka University, August 24-30, 2014)  2014年08月  -  2014年08月   

High Mobility Poly-Si TFTs using BLDA for Low-Cost Process

Takuya Ashitomi, Kouya Sugihara, Kiyoharu Shimoda, Tatsuya Okada, Takashi Noguchi, Takahiro Miyashita, Yutaka Kusuda, and Shin-ichi Motoyama

The 14th International Meeting on Information Display (Daegu, Korea, August 26-29, 2014)  2014年08月  -  2014年08月   

Poly Si TFTs formed by low temperature process using BLDA

T. Noguchi, K. Sugihara, K. Shimoda, T. Gushiken, T. Okada, E. Jaques, H. Don, T. Mohammed-Brahim

The 14th International Meeting on Information Display (Daegu, Korea, August 26-29, 2014)  2014年08月  -  2014年08月   

Electrical Characterization of SiO2 Films Deposited by RF Sputtering Using O2/Ar Mixture

Kimihiko Imura, Tatsuya Okada, Kiyoharu Shimoda, Kouya Sugihara, Takashi Noguchi, and Byung Seong Bae

The 14th International Meeting on Information Display (Daegu, Korea, August 26-29, 2014)  2014年08月  -  2014年08月   

Remarkable Increase in Photoconductivity of Patterned Poly-Si Thin Films by BLDA for System on Glass

Kota Nakao, Charith Jayanada Koswaththage, Tatsuya Okada, Takashi Noguchi

The 14th International Meeting on Information Display (Daegu, Korea, August 26-29, 2014)  2014年08月  -  2014年08月   

Advanced Low-Temperature Poly Si TFTs without Impurity Doping using BLDA (Blue Multi-Laser Diode Annealing)

Kouya SUGIHARA, Kiyoharu SHIMODA, Kimihiko IMURA, Takuya ASHITOMI, Charith Jayanada KOSWATHTHAGE, Tatsuya OKADA and Takashi NOGUCHI

2014 Asia-Pacific Workshop on Fundamentals and Applications of Advanced Semiconductor Devices (Kanazawa, July 1-3, 2014)  2014年07月  -  2014年07月   

Temperature Analysis of Si Films during Blue Multi-Laser Diode Annealing

Tatsuya Okada, Takayuki Oda, and Takashi Noguchi

2014 Asia-Pacific Workshop on Fundamentals and Applications of Advanced Semiconductor Devices (Kanazawa, July 1-3, 2014)  2014年07月  -  2014年07月   

ブルーレーザーアニール法による高移動度poly-Si TFTの作製

杉原 弘也，下田 清治，岡田 竜弥，野口 隆, 宮下 準弘, 楠田 豊, 本山 真一

第61回応用物理学会春季学術講演会 (青山学院大学, 2014年3月17-20日)  2014年03月  -  2014年03月   

青色半導体レーザ照射中Si膜の温度分布解析

岡田 竜弥, 小田 貴之, 上原 実結, 野口 隆

第61回応用物理学会春季学術講演会 (青山学院大学, 2014年3月17-20日)  2014年03月  -  2014年03月   

Advanced Crystallization of Si Films on Panel using Blue Laser-Diode

Takashi NOGUCHI, Kiyoharu SHIMODA, Kouya SUGIHARA, Charith Jayanada KOSWATHTHAGE, Satoshi CHINEN and Tatsuya OKADA

10th International Thin-Film Transistor Conference (Delft, The Netherlands, January 23-24, 2014)  2014年01月  -  2014年01月   

Effect of H2 Annealing after BLDA for Low-Cost Poly Si TFT

Kouya Sugihara, Kiyoharu Shimoda, Tatsuya Okada and Takashi Noguchi

The International Display Workshop (Kyoto, December 3-6, 2013)  2013年12月  -  2013年12月   

イオン注入したa-Si膜のSPC前後における結晶性・電気的特性の評価

若杉 智英, 岡田 竜弥, 青笹 浩, 野口 隆, 伊藤 丈二

平成25年 電気学会 九州支部沖縄所講演年電気学会 (琉球大学, 2013年12月7日)  2013年12月  -  2013年12月   

2ステップ熱アニールを施したpoly-Siフォトセンサの作製

中尾 浩太, 知念 怜, Koswaththage Charith Jayanada, 岡田 竜弥, 野口 隆

平成25年 電気学会 九州支部沖縄所講演年電気学会 (琉球大学, 2013年12月7日)  2013年12月  -  2013年12月   

水素アニールによるボトムゲート型poly-Si TFT特性の向上

安次富 卓哉, 杉原 弘也, 下田 清治, 岡田 竜弥, 野口 隆

平成25年 電気学会 九州支部沖縄所講演年電気学会 (琉球大学, 2013年12月7日)  2013年12月  -  2013年12月   

超低温プロセスによるpoly-Si TFTの作製と評価

下田 清治, 杉原 弘也, 岡田 竜弥, 野口 隆

平成25年 電気学会 九州支部沖縄所講演年電気学会 (琉球大学, 2013年12月7日)  2013年12月  -  2013年12月   

a-Si:H薄膜太陽電池の最適膜厚の検討

Kim JinKuk, 新垣 喬之, 具志堅 貴也, 魏 煌, 岡田 竜弥, 野口 隆

平成25年 電気学会 九州支部沖縄所講演年電気学会 (琉球大学, 2013年12月7日)  2013年12月  -  2013年12月   

ブルーレーザダイオードアニール(BLDA)法による結晶化Si膜を用いたタンデム構造薄膜太陽電池の提案

新垣 喬之，具志堅 貴也，岡田 竜弥，野口 隆

第74回応用物理学会秋季学術講演会 (同志社大学, 2013年9月16-20日)  2013年09月  -  2013年09月   

2ステップRTA(高温短時間アニール)によるリンドープSi薄膜の低抵抗化

若杉 智英，知念 怜，岡田 竜弥，青笹 浩，野口 隆，伊藤 丈二

第74回応用物理学会秋季学術講演会 (同志社大学, 2013年9月16-20日)  2013年09月  -  2013年09月   

O2混合Arスパッタにより成膜したSiO2膜の電気特性評価

井村 公彦，岡田 竜弥, 下田 清治，杉原 弘也，野口 隆

第74回応用物理学会秋季学術講演会 (同志社大学, 2013年9月16-20日)  2013年09月  -  2013年09月   

Fabrication of µ-poly Si TFTs with ultra-low temperature at 120ºC using BLDA

K. Shimoda, K. Sugihara, T. Okada, and T. Noguchi

The 13th International Meeting on Information Display (Daegu, Korea, August 26-29, 2013)  2013年08月  -  2013年08月   

Thin Film Photo-Sensor by BLDA to Realize System on Panel

Charith Jayanada Koswaththage, Satoshi Chinen, Kouya Sugihara, Tatsuya Okada and Takashi Noguchi

International Workshop on Active-Matrix Liquid-Crystal Displays and Devices (Kyoto, July 4-7, 2013)  2013年07月  -  2013年07月   

Possibilities of Blue Laser-Diode Annealing as a New LTPS

T. Noguchi, and T. Okada

International Workshop on Active-Matrix Liquid-Crystal Displays and Devices (Kyoto, July 4-7, 2013)  2013年07月  -  2013年07月   

Laser Crystallization of Si Films and the Applications

Takashi Noguchi and Tatsuya Okada

2013 Asia-Pacific Workshop on Fundamentals and Applications of Advanced Semiconductor Devices (Seoul, Korea, June 26-28, 2013)  2013年06月  -  2013年06月   

Ultra-low Resistance of Phosphorus Doped Si Films Activated by Blue Laser Diode Annealing (BLDA)

Takashi Noguchi, Takuma Nishinohara, Katsuya Shirai, and Tatsuya Okada

2013 MRS Spring Meeting (April 1-5, 2013, San Francisco, California)  2013年04月  -  2013年04月   

Advanced Si Photo-Sensor in TFT System for FPD by BLDA

Satoshi Chinen, Charith Jayanada Koswaththage, Kouya Sugihara, Tatsuya Okada, Takashi Noguchi, ChangMin Keum, ByungSeong Bae, and Tadashi Ohachi

The 9th International Thin-Film Transistor Conference (Tokyo, March 1-2, 2013)  2013年03月  -  2013年03月   

反応性スパッタ製膜したSiNx膜の電気特性評価

岡田 竜弥, 屋冝 佳佑, 井村 公彦, 野口 隆

第60回応用物理学会春季学術講演会 (神奈川工科大学, 2013年3月27-30日)  2013年03月  -  2013年03月   

ブルーレーザアニールを施したリンドープSi膜における電気伝導率の温度依存性

西ノ原 拓磨, 知念 怜, 岡田 竜弥, 野口 隆

第60回応用物理学会春季学術講演会 (神奈川工科大学, 2013年3月27-30日)  2013年03月  -  2013年03月   

ブルーレーザアニールによるSi 膜中のスパッタリングガスの挙動

西ノ原 拓磨, 知念 怜, 岡田 竜弥, 野口 隆

第60回応用物理学会春季学術講演会 (神奈川工科大学, 2013年3月27-30日)  2013年03月  -  2013年03月   

Smoothness of Crystallized Si Films on Flexible Glass Using Blue-Multi-Laser-Diode-Annealing

Tatsuya Okada, Takuma Nishinohara, Keisuke Yagi, Takashi Noguchi, and Taketsugu Itoh

The 9th International Thin-Film Transistor Conference (Tokyo, March 1-2, 2013)  2013年03月  -  2013年03月   

Proposal of µ-Poly Si Film Structure with High Photo-Sensitive PIN-Diode for Advanced FPD

Kouya Sugihara, Satoshi Chinen, Haruya Goga, Katsuya Shirai, Tatsuya Okada and Takashi Noguchi

The International Display Workshop (Kyoto, December 4-7, 2012)  2012年12月  -  2012年12月   

Characterization of Nitrogen-Excess SiNx Films Deposited by Surface Wave Plasma Chemical Vapor Deposition

Keisuke Yagi, Tatsuya Okada, Takashi Noguchi and Kazufumi Azuma

The International Display Workshop (Kyoto, December 4-7, 2012)  2012年12月  -  2012年12月   

Proposal of μ-Poly Si TFT for Advanced FPD with High Photo-Sensitive PIN-Diode by BLDA

T. Mukae, K. Sugihara, T. Sugihara, K. Shirai, T. Okada, T. Noguchi, and T. Ohachi

The 12th International Meeting on Information Display (Eaegu, Korea, August 28-31, 2012)  2012年08月  -  2012年08月   

Uniform Micro Poly-Si Grains in Smooth Films with (111) Preferred Orientation by Blue-Multi-Laser-Diode Annealing (BLDA)

K. Shirai, J. D. Mugiraneza, T. Okada, T. Suzuki, and T. Noguchi

The 12th International Meeting on Information Display (Eaegu, Korea, August 28-31, 2012)  2012年08月  -  2012年08月   

Crystallization of a-Si Films with Smooth Surface Using Blue-Multi-Laser-Diode-Annealing

T. Okada, J. D. Mugiraneza, K. Shirai, T. Nishinohara, T. Mukae, K. Yagi, and T. Noguchi

2012 Asia-Pacific Workshop on Fundamentals and Applications of Advanced Semiconductor Devices (June 27-29, 2012, Naha)  2012年07月  -  2012年07月   

Effective Annealing of Si Films as an advanced LTPS

T. Noguchi, T. Nishinohara, J. D. Mugiraneza, K. Shirai, and T. Okada

2012 Asia-Pacific Workshop on Fundamentals and Applications of Advanced Semiconductor Devices (June 27-29, 2012, Naha)  2012年07月  -  2012年07月   

Characterization of Optimized Sputtered Poly-Si Films by Blue-Multi-Laser-Diode Annealing for High Performance Displays

T. Nishinohara, J. D. Mugiraneza, K. Shirai, T. Okada, and T. Noguchi

2012 Asia-Pacific Workshop on Fundamentals and Applications of Advanced Semiconductor Devices (June 27-29, 2012, Naha)  2012年07月  -  2012年07月   

Crystallization of amorphous silicon films on flexible glass by Blue-Multi-Diode-Laser Annealing as a new LTPS

T. Noguchi, T. Nishinohara, J. D. Mugiraneza, K. Shirai, T. Okada, T. Itoh

Information Display's Display Week 2012 (Boston, Massachusetts USA, June 3-8, 2012)  2012年06月  -  2012年06月   

Characterization of Sputtered Poly-Silicon films by Using Blue-Multi-Laser-Diode Annealing for High Performance Display

J. D. Mugiraneza, K. Shirai, T. Okada, T. Nishinohara, K. Yagi, and T. Noguchi

第59回応用物理学関係連合講演会 (早稲田大学, 2012年3月15-18日)  2012年03月  -  2012年03月   

BLDAによるSi薄膜の活性化率向上と低抵抗化

野口 隆, 岡田 竜弥, 白井 克弥, ムギラネーザ ジャン ディユ, 井上 和久, 山田 一雄, 長谷川 正仁

第59回応用物理学関係連合講演会 (早稲田大学, 2012年3月15-18日)  2012年03月  -  2012年03月   

熱プラズマジェット照射ミリ秒熱処理におけるガラス基板の非接触温度測定及びクラック発生条件の解明

田中 敬介, 岡田 竜弥, 林 将平, 芦原 龍平, 東 清一郎

第59回応用物理学関係連合講演会 (早稲田大学, 2012年3月15-18日)  2012年03月  -  2012年03月   

ブルーレーザアニール法によるフレキシブルガラス基板上のアモルファスSi薄膜の結晶化

白井 克弥, J. D. Mugiraneza, 岡田 竜弥, 野口 隆, 伊藤 丈二

第59回応用物理学関係連合講演会 (早稲田大学, 2012年3月15-18日)  2012年03月  -  2012年03月   

スパッタ製膜したa-Si膜のブルーレーザアニール法による平坦な結晶化

岡田 竜弥, J. D. Mugiraneza, 白井 克弥, 西ノ原 拓磨, 向 智之, 屋冝 佳佑, 野口 隆, 井上 和久, 山田 一雄, 長谷川 正仁

第59回応用物理学関係連合講演会 (早稲田大学, 2012年3月15-18日)  2012年03月  -  2012年03月   

Effective activation of the sputtered P-doped-Si film for high performance poly-Si TFT

T. Nishinohara, J. D. Mugiraneza, K. Shirai, T. Suzuki, T. Okada, T. Noguchi, T. Ohachi, H. Matsushima, T. Hashimoto, Y. Ogino, E. Sahota

The 18th International Display Workshop (Nagoya, December 7-9, 2011)  2011年12月  -  2011年12月   

Development of Noncontact Measurement of SiC Wafer Temperature during Millisecond Rapid Annealing Induced by Atmospheric Pressure Thermal Plasma Jet Irradiation

R. Ashihara, T. Okada, Y. Nishida and S. Higashi

33rd International Symposium on Dry Process (November 10-11, 2011, Kyoto)  2011年11月  -  2011年11月   

Crystallization of 20-nm-thick Si Films Deposited by RF Sputtering Using Blue-Multi-Laser-Diode Annealing

T. Okada, J. D. Mugiraneza, K. Shirai, T. Suzuki, T. Noguchi, H. Matsushima, T. Hashimoto, Y. Ogino and E. Sahota

15th International Conference on Thin Film 2011 (Kyoto, November 8-11, 2011)  2011年11月  -  2011年11月   

Electrical Characterization of SiN Films Deposited by Reactive RF Sputtering

K. Yagi, T. Okada and T. Noguchi

15th International Conference on Thin Film 2011 (Kyoto, November 8-11, 2011)  2011年11月  -  2011年11月   

急速熱処理中の基板内熱応力解析

岡田 竜弥, 田中 敬介, 酒池 耕平, 野口 隆, 東 清一郎

第72回応用物理学会学術講演会 (山形大学, 2011年8月29-9月1日)  2011年08月  -  2011年08月   

大気圧熱プラズマジェット照射ミリ秒熱処理におけるSiCウェハの非接触温度測定技術の開発

芦原 龍平, 岡田 竜弥, 西田 悠亮, 東 清一郎

第72回応用物理学会学術講演会 (山形大学, 2011年8月29-9月1日)  2011年08月  -  2011年08月   

Crystallization of Si thin film on flexible plastic substrate by using Blue Multi-Laser Diode Annealing

J. D. Mugiraneza, K. Shirai, T. Suzuki, T. Okada, T. Noguchi, H. Matsushima, T. Hashimoto, Y. Ogino, E. Sahota

The eighteenth International Workshop on Active-Matrix Flatpanel Displays and Devices (Kyoto, July 11-13, 2011)  2011年07月  -  2011年07月   

Proposal of High Conversion Efficiency Thin-Film Si Solar Cell

Y. Chen, J. D. Mugiraneza, K. Shirai, T. Okada, T. Noguchi and T. Ohachi

2011 Asia-Pacific Workshop on Fundamentals and Applications of Advanced Semiconductor Devices (Daejeon, Korea, June 29 - July 1)  2011年06月  -  2011年06月   

Thickness dependence on Crystallization of Si Thin Films by Blue-Multi-Laser-Diode Annealing

T. Okada, J. D. Mugiraneza, K. Shirai, T. Suzuki, T. Noguchi, H. Matsushima, T. Hashimoto, Y. Ogino, and E. Sahota

7th International Thin-Film Transistor Conference 2011 (Cambridge, UK, March 3-4, 2011)  2011年03月  -  2011年03月   

リモート水素プラズマ処理によるPt/a-Ge:H の合金化反応制御

牧原 克典, 森澤 直也, 藤岡 知宏, 松本 竜弥, 林 将平, 岡田 竜弥, 池田 弥央, 東 清一郎, 宮崎 誠一

第58回応用物理学関係連合講演会 (神奈川工科大学, 2011年3月24-27日)  2011年03月  -  2011年03月   

青色半導体レーザアニールによるPoly-Si薄膜の結晶粒径制御

松島 英紀, 橋本 隆夫, 荻野 義明, 佐保田 英司, J.D. Mugiraneza, 白井 克弥, 鈴木 俊治, 岡田 竜弥, 野口 隆

第58回応用物理学関係連合講演会 (神奈川工科大学, 2011年3月24-27日)  2011年03月  -  2011年03月   

次世代Si薄膜アニール技術としてのBLDA

野口 隆, MUGIRANEZA J.D., 岡田 竜弥, 白井 克弥, 鈴木 俊治, 松島 英紀, 橋本 隆夫, 荻野 義明, 佐保田 英司

第58回応用物理学関係連合講演会 (神奈川工科大学, 2011年3月24-27日)  2011年03月  -  2011年03月   

スパッタ製膜した20 nm厚Si膜のブルーレーザアニールによる結晶化

岡田 竜弥, Mugiraneza J.D., 白井 克弥, 鈴木 俊治, 野口 隆, 松島 英紀, 橋本 隆夫, 荻野 義明, 佐保田 英司

第58回応用物理学関係連合講演会 (神奈川工科大学, 2011年3月24-27日)  2011年03月  -  2011年03月   

Efficient Activation of Impurity in Sputtered Si Films after Blue-Laser-Diode Annealing (BLDA)

T. Noguchi, J. D. Mugiraneza, K. Shirai, T. Suzuki, T. Okada, H. Matsushima, T. Hashimoto, Y. Ogino, and E. Sahota

7th International Thin-Film Transistor Conference 2011 (Cambridge, UK, March 3-4, 2011)  2011年03月  -  2011年03月   

Crystallization of sputtered Si films by blue laser diode annealing (BLDA) for photo-sensor application

J. D. Mugiraneza, K. Shirai, T. Suzuki, T. Okada, T. Noguchi, H. Matsushima, T. Hashimoto, Y. Ogino, E. Sahota

The 17th International Display Workshops (Fukuoka, Japan, December 1-3, 2010)  2010年12月  -  2010年12月   

Dependence of poly-crystallization on Scanning Velocity of Blue-Multi-Laser-Diode Annealing (BLDA)

K. Shirai, J. D. Mugiraneza, T. Suzuki, T. Okada, T. Noguchi, H. Matsushima, T. Hashimoto, Y. Ogino, E. Sahota

The 17th International Display Workshops (Fukuoka, Japan, December 1-3, 2010)  2010年12月  -  2010年12月   

Formation of High Density Pt Nanodots on SiO2 Induced by Millisecond Rapid Thermal Annealing using Thermal Plasma Jet

K. Makihara, K. Matsumoto, T. Okada, N. Morisawa, M. Ikeda, S. Higashi, S. Miyazaki

32th International Symposium on Dry Process (Tokyo, November 11-12, 2010)  2010年11月  -  2010年11月   

ブルーレーザアニールしたスパッタSi膜の特性評価

Mugiraneza J.D., 白井 克弥, 鈴木 俊治, 岡田 竜弥, 野口 隆, 松島 英紀, 橋本 隆夫, 荻野 義明, 佐保田 英司

第71回応用物理学会学術講演会 (長崎大学, 2010年9月14-17日)  2010年09月  -  2010年09月   

BLDAによるスパッタSi薄膜の低抵抗化

野口 隆, Mugiraneza J.D., 岡田 竜弥, 白井 克弥, 鈴木 俊治, 松島 英紀, 橋本 隆夫, 荻野 義明, 佐保田 英司

第71回応用物理学会学術講演会 (長崎大学, 2010年9月14-17日)  2010年09月  -  2010年09月   

ブルーレーザアニール法によるS i薄膜の結晶化の走査速度依存性

白井 克弥, Mugiraneza J.D., 鈴木 俊治, 岡田 竜弥, 野口 隆, 松島 英紀, 橋本 隆夫, 荻野 義明, 佐保田 英司

第71回応用物理学会学術講演会 (長崎大学, 2010年9月14-17日)  2010年09月  -  2010年09月   

ブルーレーザアニール法を用いたSi薄膜の結晶化における膜厚依存性

岡田 竜弥, Mugiraneza J.D., 白井 克弥, 鈴木 俊治, 野口 隆, 松島 英紀, 橋本 隆夫, 荻野 義明, 佐保田 英司

第71回応用物理学会学術講演会 (長崎大学, 2010年9月14-17日)  2010年09月  -  2010年09月   

リモート水素プラズマ処理における石英基板表面温度の非接触測定

筒井 啓喜, 岡田 竜弥, 東 清一郎, 広重 康夫, 松本 和也, 宮崎 誠一, 野口 隆

第57回応用物理学関係連合講演会 (東海大学, 2010年3月17-20日)  2010年03月  -  2010年03月   

ブルーレーザアニール法によるSi薄膜の結晶化の熱解析

白井 克弥, 岡田 竜弥, 野口 隆，荻野 義明，佐保田 英司

第57回応用物理学関係連合講演会 (東海大学, 2010年3月17-20日)  2010年03月  -  2010年03月   

Rapid Thermal Anneal (RTA) Effect on Si Film Sputtered on Thermally Durable Glass Substrate

J. D. Mugiraneza, T. Miyahira, A. Sakamoto, Y. Chen, T. Okada, T. Noguchi and T. Itoh

International Thin-Film Transistor Conference 2010 (Hyogo, January 28-29, 2010)  2010年01月  -  2010年01月   

リモート水素プラズマ支援による表面Pt被覆したa-Ge薄膜の局所結晶化

宮﨑 裕介，牧原 克典，川浪 彰，岡田 竜弥, 池田 弥央，東 清一郎，宮崎 誠一

第70回応用物理学会学術講演会 (富山大学, 2009年9月8-11日)  2009年09月  -  2009年09月   

熱プラズマジェット照射ミリ秒熱処理及びポストメタライゼーションアニールを用いた高品質SiO2膜及びSiO2/Si界面の形成

広重 康夫, 東 清一郎, 岡田 竜弥, 松本 和也, 宮崎 誠一

第70回応用物理学会学術講演会 (富山大学, 2009年9月8-11日)  2009年09月  -  2009年09月   

熱プラズマジェット照射ミリ秒熱処理による低温形成SiO2膜の高品質化

広重 康夫, 東 清一郎, 岡田 竜弥, 松本 和也, 宮崎 誠一

第70回応用物理学会学術講演会 (富山大学, 2009年9月8-11日)  2009年09月  -  2009年09月   

Effect of Chemical Composition of SiOx Films on Rapid Formation of Si Nanocrystals Induced by Thermal Plasma Jet Irradiation

T. Okada, S. Higashi, H. Kaku, K. Makihara, H. Furukawa, Y. Hiroshige and S. Miyazaki

International Conference on Amorphous and Nanocrystalline Semiconductors  2009年08月  -  2009年08月   

Si Nanocrystals Formation in SiO2/SiOx/SiO2 Stack Structure by Thermal Plasma Jet Annealing and Its Application to Floating Gate Memory

T. Okada, S. Higashi, H. Kaku, H. Furukawa, K. Sugakawa and S. Miyazaki

Material Research Society Spring Meeting  2009年04月  -  2009年04月   

SiOx膜へのプラズマジェット照射ミリ秒熱処理によるSiナノ結晶形成とそのフローティングゲートメモリ応用(II)

岡田 竜弥, 東 清一郎, 加久 博隆, 古川 弘和, 宮崎 誠一

第56回応用物理学関係連合講演会  2009年03月  -  2009年03月   

熱プラズマジェットミリ秒熱処理を用いたSiOx薄膜からのSiナノ結晶形成とその電荷注入特性

岡田 竜弥, 東 清一郎, 加久 博隆, 古川 弘和, 宮崎 誠一

第56回応用物理学関係連合講演会  2009年03月  -  2009年03月   

Formation of Si Nanocrystals in SiOx Films Induced by Thermal Plasma Jet Annealing and Its Application to Floating Gate Memory

T. Okada, S. Higashi, H. Kaku, H. Furukawa and S. Miyazaki

The Electrochemical Society  2008年10月  -  2008年10月   

SiOx膜へのプラズマジェット照射ミリ秒熱処理によるSiナノ結晶形成とそのフローティングゲートメモリ応用

岡田 竜弥, 東 清一郎, 加久 博隆, 古川 弘和, 宮崎 誠一

第69回応用物理学会学術講演会  2008年09月  -  2008年09月   

Photoluminescent Properties of Thermal Plasma Jet Annealed SiOx Films Prepared by Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition

T. Okada, S. Higashi, H. Kaku and S. Miyazaki

International Conference on Microelectronics and Plasma Technology  2008年08月  -  2008年08月   

Photoluminescent Properties of SiOx Films Formed by Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition

T. Okada, S. Higashi, H. Kaku, T. Yorimoto, H. Murakami and S. Miyazaki

International Conference on Plasma-Nano Technology  2008年03月  -  2008年03月   

プラズマCVDにより堆積したSiOx薄膜からのフォトルミネッセンス

岡田 竜弥, 東 清一郎, 加久 博隆, 寄本 拓也, 村上 秀樹, 宮崎 誠一

第55回応用物理学関係連合講演会  2008年03月  -  2008年03月   

熱プラズマジェット照射ミリ秒熱処理したSiOx薄膜のフォトルミネッセンス

岡田 竜弥, 東 清一郎, 加久 博隆, 寄本 拓也, 村上 秀樹, 宮崎 誠一

第68回応用物理学会学術講演会  2007年09月  -  2007年09月   

熱プラズマジェット照射により超急速熱処理したSiOx薄膜のフォトルミネッセンス

岡田 竜弥, 東 清一郎, 加久 博隆, 寄本 拓也, 村上 秀樹, 宮崎 誠一

第54回応用物理学関係連合講演会  2007年03月  -  2007年03月   

Growth of Si Crystalline in SiOx Films Induced by Millisecond Rapid Thermal Annealing Using Thermal Plasma Jet

T. Okada, S. Higashi, H. Kaku, T. Yorimoto, H. Murakami and S. Miyazaki

Proc. 3rd Int. TFT Conf. (Rome, Italy, January 25-26, 2007)  2007年01月  -  2007年01月   

Effect of He Addition on the Heating Characteristics of Substrate Surface Irradiated by Ar Thermal Plasma Jet

T. Okada, S. Higashi, H. Kaku, N. Koba, H. Murakami and S. Miyazaki

Proc. Int. Symposium on Dry Process (Nagoya, November 29-30, 2006)  2006年11月  -  2006年11月   

熱プラズマジェットを用いたSiOx薄膜の急速熱処理によるSiナノ結晶成長

岡田 竜弥, 東 清一郎, 加久 博隆, 寄本 拓也, 村上 秀樹, 宮崎 誠一

第67回応用物理学会学術講演会  2006年08月  -  2006年08月   

Impact of He Addition on the Substrate Surface Temperature During Rapid Thermal Annealing Induced by Ar Thermal Plasma Jet Irradiation

T. Okada, S. Higashi, N. Koba, H. Kaku, H. Murakami and S. Miyazaki

International Conference on Advanced Surface Engineering  2006年04月  -  2006年04月   

熱プラズマジェットを用いた急速熱処理によるSiOx薄膜からのSiナノ結晶成長制御

岡田 竜弥, 東 清一郎, 加久 博隆, 木庭 直浩, 村上 秀樹, 宮崎 誠一

第53回応用物理学会学術講演会  2006年03月  -  2006年03月   

Control of Substrate Surface Temperature in Millisecond Annealing Technique Using Thermal Plasma Jet

T. Okada, S. Higashi, H. Kaku, N. Koba, H. Murakami and S. Miyazaki

International Symposium on Dry Process  2005年11月  -  2005年11月   

熱プラズマジェット照射短時間熱処理における基板表面温度制御

岡田 竜弥, 東 清一郎, 加久 博隆, 木庭 直浩, 村上 秀樹, 宮崎 誠一

第66回応用物理学会学術講演会  2005年09月  -  2005年09月   

Analysis of Transient Temperature Profile During Thermal Plasma Jet Annealing of Si Films on Quartz Substrate

T. Okada, S. Higashi, H. Kaku, H. Murakami and S. Miyazaki

International Workshop on Active-Matrix Liquid-Crystal Displays  2005年07月  -  2005年07月   

熱プラズマジェットによる短時間熱処理過程の温度解析

岡田 竜弥, 加久 博隆, 村上 秀樹, 東 清一郎, 宮崎 誠一

第52回応用物理学関係連合講演会  2005年03月  -  2005年03月