研究発表等の成果普及活動 - 岡田 竜弥
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Crystallization of sputtered Si films by blue laser diode annealing (BLDA) for photo-sensor application
J. D. Mugiraneza, K. Shirai, T. Suzuki, T. Okada, T. Noguchi, H. Matsushima, T. Hashimoto, Y. Ogino, E. Sahota
The 17th International Display Workshops (Fukuoka, Japan, December 1-3, 2010) 2010年12月 - 2010年12月
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Dependence of poly-crystallization on Scanning Velocity of Blue-Multi-Laser-Diode Annealing (BLDA)
K. Shirai, J. D. Mugiraneza, T. Suzuki, T. Okada, T. Noguchi, H. Matsushima, T. Hashimoto, Y. Ogino, E. Sahota
The 17th International Display Workshops (Fukuoka, Japan, December 1-3, 2010) 2010年12月 - 2010年12月
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Formation of High Density Pt Nanodots on SiO2 Induced by Millisecond Rapid Thermal Annealing using Thermal Plasma Jet
K. Makihara, K. Matsumoto, T. Okada, N. Morisawa, M. Ikeda, S. Higashi, S. Miyazaki
32th International Symposium on Dry Process (Tokyo, November 11-12, 2010) 2010年11月 - 2010年11月
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ブルーレーザアニールしたスパッタSi膜の特性評価
Mugiraneza J.D., 白井 克弥, 鈴木 俊治, 岡田 竜弥, 野口 隆, 松島 英紀, 橋本 隆夫, 荻野 義明, 佐保田 英司
第71回応用物理学会学術講演会 (長崎大学, 2010年9月14-17日) 2010年09月 - 2010年09月
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BLDAによるスパッタSi薄膜の低抵抗化
野口 隆, Mugiraneza J.D., 岡田 竜弥, 白井 克弥, 鈴木 俊治, 松島 英紀, 橋本 隆夫, 荻野 義明, 佐保田 英司
第71回応用物理学会学術講演会 (長崎大学, 2010年9月14-17日) 2010年09月 - 2010年09月
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ブルーレーザアニール法によるS i薄膜の結晶化の走査速度依存性
白井 克弥, Mugiraneza J.D., 鈴木 俊治, 岡田 竜弥, 野口 隆, 松島 英紀, 橋本 隆夫, 荻野 義明, 佐保田 英司
第71回応用物理学会学術講演会 (長崎大学, 2010年9月14-17日) 2010年09月 - 2010年09月
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ブルーレーザアニール法を用いたSi薄膜の結晶化における膜厚依存性
岡田 竜弥, Mugiraneza J.D., 白井 克弥, 鈴木 俊治, 野口 隆, 松島 英紀, 橋本 隆夫, 荻野 義明, 佐保田 英司
第71回応用物理学会学術講演会 (長崎大学, 2010年9月14-17日) 2010年09月 - 2010年09月
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リモート水素プラズマ処理における石英基板表面温度の非接触測定
筒井 啓喜, 岡田 竜弥, 東 清一郎, 広重 康夫, 松本 和也, 宮崎 誠一, 野口 隆
第57回応用物理学関係連合講演会 (東海大学, 2010年3月17-20日) 2010年03月 - 2010年03月
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ブルーレーザアニール法によるSi薄膜の結晶化の熱解析
白井 克弥, 岡田 竜弥, 野口 隆，荻野 義明，佐保田 英司
第57回応用物理学関係連合講演会 (東海大学, 2010年3月17-20日) 2010年03月 - 2010年03月
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Rapid Thermal Anneal (RTA) Effect on Si Film Sputtered on Thermally Durable Glass Substrate
J. D. Mugiraneza, T. Miyahira, A. Sakamoto, Y. Chen, T. Okada, T. Noguchi and T. Itoh
International Thin-Film Transistor Conference 2010 (Hyogo, January 28-29, 2010) 2010年01月 - 2010年01月
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リモート水素プラズマ支援による表面Pt被覆したa-Ge薄膜の局所結晶化
宮﨑 裕介，牧原 克典，川浪 彰，岡田 竜弥, 池田 弥央，東 清一郎，宮崎 誠一
第70回応用物理学会学術講演会 (富山大学, 2009年9月8-11日) 2009年09月 - 2009年09月
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熱プラズマジェット照射ミリ秒熱処理及びポストメタライゼーションアニールを用いた高品質SiO2膜及びSiO2/Si界面の形成
広重 康夫, 東 清一郎, 岡田 竜弥, 松本 和也, 宮崎 誠一
第70回応用物理学会学術講演会 (富山大学, 2009年9月8-11日) 2009年09月 - 2009年09月
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熱プラズマジェット照射ミリ秒熱処理による低温形成SiO2膜の高品質化
広重 康夫, 東 清一郎, 岡田 竜弥, 松本 和也, 宮崎 誠一
第70回応用物理学会学術講演会 (富山大学, 2009年9月8-11日) 2009年09月 - 2009年09月
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Effect of Chemical Composition of SiOx Films on Rapid Formation of Si Nanocrystals Induced by Thermal Plasma Jet Irradiation
T. Okada, S. Higashi, H. Kaku, K. Makihara, H. Furukawa, Y. Hiroshige and S. Miyazaki
International Conference on Amorphous and Nanocrystalline Semiconductors 2009年08月 - 2009年08月
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Si Nanocrystals Formation in SiO2/SiOx/SiO2 Stack Structure by Thermal Plasma Jet Annealing and Its Application to Floating Gate Memory
T. Okada, S. Higashi, H. Kaku, H. Furukawa, K. Sugakawa and S. Miyazaki
Material Research Society Spring Meeting 2009年04月 - 2009年04月
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SiOx膜へのプラズマジェット照射ミリ秒熱処理によるSiナノ結晶形成とそのフローティングゲートメモリ応用(II)
岡田 竜弥, 東 清一郎, 加久 博隆, 古川 弘和, 宮崎 誠一
第56回応用物理学関係連合講演会 2009年03月 - 2009年03月
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熱プラズマジェットミリ秒熱処理を用いたSiOx薄膜からのSiナノ結晶形成とその電荷注入特性
岡田 竜弥, 東 清一郎, 加久 博隆, 古川 弘和, 宮崎 誠一
第56回応用物理学関係連合講演会 2009年03月 - 2009年03月
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Formation of Si Nanocrystals in SiOx Films Induced by Thermal Plasma Jet Annealing and Its Application to Floating Gate Memory
T. Okada, S. Higashi, H. Kaku, H. Furukawa and S. Miyazaki
The Electrochemical Society 2008年10月 - 2008年10月
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SiOx膜へのプラズマジェット照射ミリ秒熱処理によるSiナノ結晶形成とそのフローティングゲートメモリ応用
岡田 竜弥, 東 清一郎, 加久 博隆, 古川 弘和, 宮崎 誠一
第69回応用物理学会学術講演会 2008年09月 - 2008年09月
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Photoluminescent Properties of Thermal Plasma Jet Annealed SiOx Films Prepared by Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition
T. Okada, S. Higashi, H. Kaku and S. Miyazaki
International Conference on Microelectronics and Plasma Technology 2008年08月 - 2008年08月