研究発表等の成果普及活動 - 岡田　竜弥

Photoluminescent Properties of SiOx Films Formed by Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition

T. Okada, S. Higashi, H. Kaku, T. Yorimoto, H. Murakami and S. Miyazaki

International Conference on Plasma-Nano Technology  2008年03月  -  2008年03月   

プラズマCVDにより堆積したSiOx薄膜からのフォトルミネッセンス

岡田 竜弥, 東 清一郎, 加久 博隆, 寄本 拓也, 村上 秀樹, 宮崎 誠一

第55回応用物理学関係連合講演会  2008年03月  -  2008年03月   

熱プラズマジェット照射ミリ秒熱処理したSiOx薄膜のフォトルミネッセンス

岡田 竜弥, 東 清一郎, 加久 博隆, 寄本 拓也, 村上 秀樹, 宮崎 誠一

第68回応用物理学会学術講演会  2007年09月  -  2007年09月   

熱プラズマジェット照射により超急速熱処理したSiOx薄膜のフォトルミネッセンス

岡田 竜弥, 東 清一郎, 加久 博隆, 寄本 拓也, 村上 秀樹, 宮崎 誠一

第54回応用物理学関係連合講演会  2007年03月  -  2007年03月   

Growth of Si Crystalline in SiOx Films Induced by Millisecond Rapid Thermal Annealing Using Thermal Plasma Jet

T. Okada, S. Higashi, H. Kaku, T. Yorimoto, H. Murakami and S. Miyazaki

Proc. 3rd Int. TFT Conf. (Rome, Italy, January 25-26, 2007)  2007年01月  -  2007年01月   

Effect of He Addition on the Heating Characteristics of Substrate Surface Irradiated by Ar Thermal Plasma Jet

T. Okada, S. Higashi, H. Kaku, N. Koba, H. Murakami and S. Miyazaki

Proc. Int. Symposium on Dry Process (Nagoya, November 29-30, 2006)  2006年11月  -  2006年11月   

熱プラズマジェットを用いたSiOx薄膜の急速熱処理によるSiナノ結晶成長

岡田 竜弥, 東 清一郎, 加久 博隆, 寄本 拓也, 村上 秀樹, 宮崎 誠一

第67回応用物理学会学術講演会  2006年08月  -  2006年08月   

Impact of He Addition on the Substrate Surface Temperature During Rapid Thermal Annealing Induced by Ar Thermal Plasma Jet Irradiation

T. Okada, S. Higashi, N. Koba, H. Kaku, H. Murakami and S. Miyazaki

International Conference on Advanced Surface Engineering  2006年04月  -  2006年04月   

熱プラズマジェットを用いた急速熱処理によるSiOx薄膜からのSiナノ結晶成長制御

岡田 竜弥, 東 清一郎, 加久 博隆, 木庭 直浩, 村上 秀樹, 宮崎 誠一

第53回応用物理学会学術講演会  2006年03月  -  2006年03月   

Control of Substrate Surface Temperature in Millisecond Annealing Technique Using Thermal Plasma Jet

T. Okada, S. Higashi, H. Kaku, N. Koba, H. Murakami and S. Miyazaki

International Symposium on Dry Process  2005年11月  -  2005年11月   

熱プラズマジェット照射短時間熱処理における基板表面温度制御

岡田 竜弥, 東 清一郎, 加久 博隆, 木庭 直浩, 村上 秀樹, 宮崎 誠一

第66回応用物理学会学術講演会  2005年09月  -  2005年09月   

Analysis of Transient Temperature Profile During Thermal Plasma Jet Annealing of Si Films on Quartz Substrate

T. Okada, S. Higashi, H. Kaku, H. Murakami and S. Miyazaki

International Workshop on Active-Matrix Liquid-Crystal Displays  2005年07月  -  2005年07月   

熱プラズマジェットによる短時間熱処理過程の温度解析

岡田 竜弥, 加久 博隆, 村上 秀樹, 東 清一郎, 宮崎 誠一

第52回応用物理学関係連合講演会  2005年03月  -  2005年03月